溶剂气氛下聚苯乙烯薄膜的结构演化
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-23页 |
| ·高分子薄膜简介 | 第8页 |
| ·椭圆偏振光谱仪 | 第8-18页 |
| ·简介 | 第8-9页 |
| ·椭偏光谱仪的工作原理与步骤 | 第9-12页 |
| ·椭偏光谱仪的分类 | 第12-13页 |
| ·椭偏测量术的产生背景 | 第13页 |
| ·椭偏测量术的研究进展 | 第13-14页 |
| ·我国椭偏技术的发展 | 第14页 |
| ·椭偏测量术的技术优势 | 第14-15页 |
| ·椭偏光谱仪研究薄膜的主要方向 | 第15-17页 |
| ·椭偏测量术的其他应用 | 第17-18页 |
| ·原位椭圆偏振测量技术 | 第18页 |
| ·光学显微镜 | 第18-20页 |
| ·简介 | 第18-19页 |
| ·光学显微镜的基本结构 | 第19页 |
| ·光学显微镜的基本原理 | 第19-20页 |
| ·原子力显微镜 | 第20-22页 |
| ·简介 | 第20页 |
| ·原子力显微镜的成像原理 | 第20-21页 |
| ·原子力显微镜在高分子领域的应用 | 第21-22页 |
| ·论文的选题依据和研究思路 | 第22-23页 |
| 第二章 原位表征气氛下处理聚苯乙烯薄膜 | 第23-36页 |
| ·实验材料 | 第23页 |
| ·样品制备 | 第23-24页 |
| ·硅片的切割与清洗 | 第23-24页 |
| ·溶液的配置 | 第24页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第24页 |
| ·实验仪器 | 第24页 |
| ·自制实验气体池 | 第24-26页 |
| ·实验结果与讨论 | 第26-35页 |
| ·单波长实验 | 第26-27页 |
| ·厚度不同，THF 体积相同的实验结果 | 第27-31页 |
| ·厚度相同，THF 体积不同的实验结果 | 第31-34页 |
| ·薄膜表面缺陷 | 第34-35页 |
| ·实验结果小结 | 第35-36页 |
| 第三章 显微镜实时观测气氛下薄膜的演化过程 | 第36-42页 |
| ·实验材料 | 第36页 |
| ·样品制备 | 第36-37页 |
| ·硅片的清洗 | 第36页 |
| ·溶液的配制 | 第36-37页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第37页 |
| ·实验仪器 | 第37页 |
| ·实验结果与讨论 | 第37-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 第四章 总结 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
| 致谢 | 第45页 |
