摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-13页 |
·引言 | 第9页 |
·论文的研究背景以及意义 | 第9-10页 |
·最新研究动态 | 第10-11页 |
·论文的主要内容以及相关章节介绍 | 第11-12页 |
·采取的研究方法和技术路线 | 第12-13页 |
第二章 表面等离子体综述 | 第13-25页 |
·表面等离子体的发展历史 | 第13-14页 |
·表面等离子体相关原理(SPPs) | 第14-20页 |
·表面等离子体的色散 | 第14-18页 |
·表面等离子体的特征长度 | 第18-20页 |
·表面等离子体的激发方式 | 第20-22页 |
·棱镜耦合 | 第20页 |
·波导结构 | 第20-21页 |
·光栅耦合 | 第21-22页 |
·近场耦合 | 第22页 |
·超透镜成像原理以及负折射 | 第22-25页 |
第三章 近场扫描光学显微镜(NSOM) | 第25-39页 |
·近场扫描光学显微镜简介 | 第25-26页 |
·近场光学显微镜(NSOM)的基本结构 | 第26-28页 |
·NSOM 的基本系统构成 | 第26-28页 |
·近场光学扫面显微镜(NSOM)的探针的制作 | 第28-32页 |
·无孔光纤探针 | 第32-35页 |
·近场扫描光学显微镜(NSOM)的应用 | 第35-39页 |
第四章 表面等离子体透镜的设计和制作 | 第39-52页 |
·等离子体透镜结构的设计 | 第39-46页 |
·传统的菲涅耳波带片 | 第39-40页 |
·亚波长纳米金属结构对光相位的调制方式 | 第40-46页 |
·聚焦等离子体刻蚀技术(FIBM) | 第46-50页 |
·FIB 设备简介 | 第47-48页 |
·FIB 成像、刻蚀、沉积工作原理 | 第48-50页 |
·表面等离子透镜的加工制作 | 第50-52页 |
第五章 表面等离子透镜的聚焦效果的数值分析 | 第52-60页 |
·表面等离子体透镜聚焦效果的数值模拟分析 | 第52-53页 |
·FDTD Solution 软件介绍 | 第53-54页 |
·等离子体透镜仿真参数设置 | 第54-55页 |
·等离子透镜 FDTD 仿真结果 | 第55-56页 |
·等离子体透镜仿真结果分析 | 第56-59页 |
·等离子体透镜的仿真结果总结 | 第59-60页 |
第六章 表面等离子透镜的聚焦效果的近场实验结果分析 | 第60-69页 |
·表面等离子体透镜聚焦效果的近场实验设置 | 第60页 |
·制作等离子体样品和近场光学实验的系统简介 | 第60-63页 |
·实验使用的聚焦离子束系统 | 第61页 |
·近场光学实验使用的近场光学扫描显微镜 | 第61-63页 |
·等离子体透镜的近场光学实验结果 | 第63-67页 |
·在近场 XY 平面的电场强度 | 第63-64页 |
·在聚焦平面处 XY 平面的电场强度 | 第64-66页 |
·等离子体透镜聚焦光斑的半高全宽 | 第66-67页 |
·三种调制方式的聚焦效果的理论和实验比较以及分析 | 第67-69页 |
第七章 总结和展望 | 第69-71页 |
·发电以及能量转化 | 第69-70页 |
·信息技术 | 第70页 |
·传感器技术 | 第70页 |
·纳米医学 | 第70-71页 |
致谢 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-75页 |
攻硕期间取得的研究成果 | 第75-76页 |