| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·负折射现象 | 第8-15页 |
| ·一般形式的Snell定律 | 第8-10页 |
| ·研究回顾 | 第10-11页 |
| ·左手材料的特殊性质及应用 | 第11-13页 |
| ·光在金属基材料中的传播规律研究 | 第13-15页 |
| ·氧化锌薄膜 | 第15-16页 |
| ·氧化锌结构特性 | 第15页 |
| ·氧化锌光学特性 | 第15-16页 |
| ·氧化锌薄膜制备方法 | 第16页 |
| ·本工作目的及意义 | 第16-17页 |
| 第二章 金属薄膜实验系统及样品制备 | 第17-25页 |
| ·Leybold SP600磁控溅射系统 | 第17-19页 |
| ·楔形薄膜样品制备平台 | 第19-21页 |
| ·实验测量光路 | 第21页 |
| ·CCD探测器 | 第21-22页 |
| ·测量控制系统 | 第22-25页 |
| 第三章 可见光波在天然金属基界面正负折射实验研究 | 第25-47页 |
| ·样品制备和表征 | 第25-28页 |
| ·测量系统及方法 | 第28-32页 |
| ·实验结果 | 第32-35页 |
| ·机理探讨 | 第35-47页 |
| ·受折射率控制的光速可变机理 | 第35-38页 |
| ·光在金属基界面的传输路径 | 第38-41页 |
| ·Goos-H(a|¨)nchen效应 | 第41-42页 |
| ·负磁导率效应 | 第42-44页 |
| ·等离子共振条件 | 第44-45页 |
| ·金属环的感应磁导率效应 | 第45-47页 |
| 第四章 氧化锌薄膜光学性质研究 | 第47-66页 |
| ·ECR等离子体辅助脉冲激光沉积ZnO薄膜 | 第47-49页 |
| ·脉冲激光沉积原理 | 第47-48页 |
| ·ECR等离子体辅助脉冲激光沉积制备ZnO薄膜 | 第48-49页 |
| ·椭偏光谱分析原理及光学常数分析模型 | 第49-58页 |
| ·椭圆偏振光谱分析原理 | 第50-55页 |
| ·有效介质近似和光学常数的色散模型 | 第55-58页 |
| ·基于不同色散模型的氧化锌薄膜光学性质实验结果与讨论 | 第58-66页 |
| ·样品X射线衍射谱(XRD)表征 | 第58-59页 |
| ·椭圆偏振测量结果 | 第59页 |
| ·膜系结构 | 第59-60页 |
| ·不同色散模型拟合结果和讨论 | 第60-64页 |
| ·ZnO薄膜光学性质研究小结 | 第64-66页 |
| 第五章 工作总结与展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
| 攻读学位期间发表论文 | 第75-76页 |