| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| ·多孔材料的一般介绍 | 第10页 |
| ·微孔分子筛的发现和一般发展过程 | 第10-12页 |
| ·介孔分子筛的发现、生成机理、发展和应用 | 第12-27页 |
| ·介孔分子筛的发现和一般发展 | 第12-13页 |
| ·有序介孔材料的一般合成过程 | 第13-17页 |
| ·介观结构的生成机理:液晶模板机理和协同作用机理 | 第17-20页 |
| ·常见介孔材料的合成进展 | 第20-25页 |
| ·M41S类介孔材料的发展 | 第20-23页 |
| ·SBA系介孔分子筛发展 | 第23-24页 |
| ·非硅基介孔氧化物的合成进展 | 第24-25页 |
| ·有序介孔材料的应用 | 第25-27页 |
| ·大孔材料的一般发展过程 | 第27页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第27-28页 |
| ·本课题的主要目的和研究意义 | 第28-30页 |
| 第二章 有序介孔材料Zn-MCM-48的合成与表征 | 第30-37页 |
| ·实验 | 第30-31页 |
| ·试剂和测试 | 第30页 |
| ·合成方法 | 第30-31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-35页 |
| ·XRD衍射结果 | 第32-33页 |
| ·N_2吸附-脱附等温线 | 第33-34页 |
| ·XPS电子能谱图 | 第34-35页 |
| ·机理与结论 | 第35-37页 |
| 第三章 在含水极性有机溶剂合成含过渡金属的介孔二氧化硅 | 第37-62页 |
| ·Mo-MCM-41的合成与表征 | 第38-44页 |
| ·实验 | 第38-39页 |
| ·试剂与测试 | 第38页 |
| ·合成方法 | 第38-39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-43页 |
| ·XRD衍射分析 | 第40-41页 |
| ·N_2吸附-脱附等温线 | 第41-42页 |
| ·XPS电子能谱图 | 第42-43页 |
| ·机理与结论 | 第43-44页 |
| ·在含水极性有机溶剂合成含Mo,V,W介孔二氧化硅 | 第44-54页 |
| ·实验 | 第44-46页 |
| ·试剂与测试 | 第44页 |
| ·合成方法 | 第44-46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-52页 |
| ·XRD衍射结果 | 第47-50页 |
| ·N_2吸附-脱附等温线 | 第50-52页 |
| ·Mo-MCM-50的3d电子能谱图 | 第52页 |
| ·机理与结论 | 第52-54页 |
| ·含水有机溶剂中TBA_4H[PW_(11)Mn(H_2O)O_(39)]-containing MCM-50的合成与表征 | 第54-62页 |
| ·实验 | 第54-55页 |
| ·试剂与测试 | 第54-55页 |
| ·合成方法 | 第55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-61页 |
| ·含TBA_4H[PW_(11)Mn(H_2O)O_(39)]的MCM-50的SEM图像 | 第56-57页 |
| ·含TBA_4H[PW_(11)Mn(H_2O)O_(39)]的MCM-50的XRD衍射结果 | 第57-58页 |
| ·不同TBA_4H[PW_(11)Mn(H_2O)O_(39)]含量的MCM-50的XRD衍射结果 | 第58-59页 |
| ·含TBA_4H[PW_(11)Mn(H_2O)O_(39)]的MCM-50分子筛的N_2吸附-脱附等温线 | 第59-60页 |
| ·含TBA_4H[PW_(11)Mn(H_2O)O_(39)]的MCM-50分子筛的EDX表征 | 第60-61页 |
| ·机理与结论 | 第61-62页 |
| 第四章 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第70-71页 |
| 作者和导师简介 | 第71-72页 |
| 硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第72-73页 |
