氧化铬薄膜的生长机理及力学性能表征
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 引言 | 第10-12页 |
| 1 概述 | 第12-40页 |
| ·真空镀膜技术 | 第12-27页 |
| ·真空镀膜技术综述 | 第12-14页 |
| ·溅射技术的进展 | 第14-15页 |
| ·反应磁控溅射技术的研究 | 第15-18页 |
| ·薄膜结构及性能的表征、评价技术 | 第18-25页 |
| ·薄膜中的缺陷 | 第25-27页 |
| ·氧化铬薄膜 | 第27-40页 |
| ·氧化铬材料的晶体结构和用途 | 第27-29页 |
| ·氧化铬薄膜的研究现状 | 第29-34页 |
| ·力学性质 | 第34-36页 |
| ·光学性质 | 第36-37页 |
| ·摩擦、磨损性能 | 第37-39页 |
| ·氧化铬薄膜研究中存在的问题 | 第39-40页 |
| 2 沉积参数对薄膜微观结构和力学性能的影响 | 第40-58页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·实验过程 | 第40-41页 |
| ·实验结果及讨论 | 第41-56页 |
| ·氧气流量对薄膜微观结构的影响 | 第41-45页 |
| ·力学性能与微观结构的相关性 | 第45-52页 |
| ·氧气流量对等离子体光谱的影响 | 第52-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 3 膜基界面的微观结构 | 第58-86页 |
| ·引言 | 第58-59页 |
| ·实验过程 | 第59-60页 |
| ·实验结果及讨论 | 第60-84页 |
| ·单层 Cr/Cr_2O_3薄膜的界面研究 | 第60-70页 |
| ·多层 Cr/Cr_2O_3的界面研究 | 第70-76页 |
| ·梯度过渡薄膜的探索 | 第76-78页 |
| ·薄膜的生长过程讨论 | 第78-84页 |
| ·本章小结 | 第84-86页 |
| 4 热处理对薄膜微观结构及力学性能的影响 | 第86-96页 |
| ·引言 | 第86页 |
| ·实验过程 | 第86页 |
| ·实验结果及讨论 | 第86-94页 |
| ·热处理对薄膜微观结构的影响 | 第86-90页 |
| ·热处理对薄膜力学性能的影响 | 第90-92页 |
| ·热处理对界面的影响 | 第92-94页 |
| ·本章小结 | 第94-96页 |
| 5 环境对薄膜力学性能的影响 | 第96-112页 |
| ·引言 | 第96页 |
| ·实验过程 | 第96-97页 |
| ·实验结果及讨论 | 第97-110页 |
| ·水对氧化铬薄膜粘结强度、摩擦磨损性能的影响 | 第97-105页 |
| ·水对金薄膜摩擦磨损性能的影响 | 第105-110页 |
| ·本章小结 | 第110-112页 |
| 6 结论 | 第112-113页 |
| 参考文献 | 第113-124页 |
| 致谢 | 第124页 |
