| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·稀磁半导体 | 第10-15页 |
| ·稀磁半导体 | 第10-11页 |
| ·稀磁半导体的铁磁性机理 | 第11-13页 |
| ·稀磁半导体的研究进展 | 第13-15页 |
| ·TiO_2 基稀磁半导体 | 第15-21页 |
| ·TiO_2 的基本特点 | 第15-17页 |
| ·TiO_2 的能带结构 | 第17-18页 |
| ·过渡族金属掺杂的TiO_2 | 第18-20页 |
| ·本文选题依据 | 第20-21页 |
| ·本文的研究内容、研究方法 | 第21-22页 |
| ·研究内容 | 第21页 |
| ·研究方法 | 第21-22页 |
| 第二章 薄膜的制备方法和测试手段 | 第22-41页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第22-25页 |
| ·物理气相沉积(PVD) | 第22-23页 |
| ·分子束外延(Molecular Beam Epitaxy) | 第23页 |
| ·脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition) | 第23页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第23-24页 |
| ·化学溶液镀膜法 | 第24-25页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第25页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第25-28页 |
| ·样品的测试手段 | 第28页 |
| ·测试手段的基本原理 | 第28-41页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第28-30页 |
| ·X-射线光电子能谱(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS) | 第30-31页 |
| ·激光拉曼散射光谱 | 第31-33页 |
| ·紫外-可见分光光度计(UV-VIS spectrophotometer) | 第33页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第33页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)和X 射线能谱(EDX) | 第33-38页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第38-41页 |
| 第三章 样品的制备和结构研究 | 第41-52页 |
| ·样品的制备 | 第41-43页 |
| ·薄膜的晶体结构结构研究 | 第43-44页 |
| ·Mn 在薄膜中的存在形式 | 第44-51页 |
| ·Mn 含量的测定 | 第44-47页 |
| ·Mn 在薄膜中的化学状态 | 第47-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第四章 薄膜的电子显微镜研究 | 第52-65页 |
| ·薄膜的扫描电子显微镜研究 | 第52-55页 |
| ·薄膜的透射电子显微镜研究 | 第55-64页 |
| ·总体特征研究 | 第57-62页 |
| ·局部特征研究 | 第62-64页 |
| ·小结 | 第64-65页 |
| 第五章 薄膜的物性研究 | 第65-70页 |
| ·薄膜的铁磁性 | 第65-66页 |
| ·薄膜的磁性与结构的关系 | 第66-67页 |
| ·薄膜的光学特性研究 | 第67-69页 |
| ·小结 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
