| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-33页 |
| ·铁电材料的发现与发展 | 第13-14页 |
| ·铁电材料的结构 | 第14-19页 |
| ·铁电薄膜的发展现状 | 第19-20页 |
| ·铁电薄膜的制备方法 | 第20-23页 |
| ·铁电薄膜的应用 | 第23-28页 |
| ·铁电存储器 | 第23-27页 |
| ·热释电红外探测器 | 第27-28页 |
| ·微电子机械系统(MEMS—Microelectron mechanical system) | 第28页 |
| ·铁电薄膜与铁电不挥发存储器件的研究最新进展 | 第28-32页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第32-33页 |
| 第2章 薄膜制备与表征研究方法 | 第33-39页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第33-36页 |
| ·Sol-Gel法的主要优缺点 | 第33-34页 |
| ·前驱体溶液的配制 | 第34-35页 |
| ·薄膜的制备主要工艺流程 | 第35-36页 |
| ·粉体的制备工艺流程 | 第36页 |
| ·薄膜结构与性能表征方法 | 第36-39页 |
| ·分析方法 | 第36-37页 |
| ·薄膜择优取向取向度的表征方法 | 第37-38页 |
| ·薄膜的粗糙度 | 第38-39页 |
| 第3章 LaNiO_3氧化物电极薄膜的制备与特性 | 第39-57页 |
| ·热处理工艺条件对LaNiO_3电极氧化物薄膜电阻率的影响 | 第39-42页 |
| ·工艺条件对择优取向LNO氧化物电极薄膜结构的影响 | 第42-52页 |
| ·(110)择优取向LNO氧化物电极薄膜 | 第43-50页 |
| ·(100)择优取向LNO氧化物电极薄膜 | 第50-52页 |
| ·(110)、(100)取向高度择优的LNO氧化物电极薄膜 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第4章 择优取向SrBi_4Ti_4O_(15)薄膜的制备与特性 | 第57-75页 |
| ·LNO氧化物电极薄膜上SBTi薄膜制备与表征方法 | 第57-65页 |
| ·SrBi_4Ti_4O_(15)前驱体溶液的热分析 | 第57-58页 |
| ·(100)择优的LNO底电极上SBTi薄膜的取向和外延关系 | 第58-61页 |
| ·(110)择优的LNO底电极上SBTi薄膜的取向与性能 | 第61-65页 |
| ·SiO_2/Si(100)片上SrBi_4Ti_4O_(15)铁电薄膜的取向控制和性能 | 第65-73页 |
| ·铋过量对SrBi_4Ti_4O_(15)薄膜晶体结构的影响 | 第65-66页 |
| ·退火温度对SBTi薄膜晶体结构的影响 | 第66-68页 |
| ·前驱体溶液中醋酸加入量对SBTi薄膜晶体结构的影响 | 第68-70页 |
| ·SiO_2/Si(100)基片上(100)择优的SBTi薄膜的电学性能 | 第70-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 第5章 择优取向CaBi_4Ti_4O_(15)薄膜的制备与特性 | 第75-83页 |
| ·差热—热失重分析 | 第75-76页 |
| ·铋过量对CaBi_4Ti_4O_(15)薄膜的晶体结构和性能的影响 | 第76-78页 |
| ·退火温度对CaBi_(4.3)Ti_4O_(15)铁电薄膜结构和性能影响 | 第78-80页 |
| ·退火时间对CaBi_(4.3)Ti_4O_(15)铁电薄膜结构和性能的影响 | 第80-82页 |
| ·本章小结 | 第82-83页 |
| 第6章 择优取向(Ca,Sr)Bi_4Ti_4O_(15)膜的制备与特性 | 第83-112页 |
| ·Ca含量对C_xS(1-x)BTi铁电薄膜的影响 | 第83-86页 |
| ·C_xS_(1-x)BTi薄膜XRD分析 | 第83-84页 |
| ·C_xS(1-x)BTi薄膜SEM分析 | 第84-85页 |
| ·C_xS_(1-x)BTi薄膜铁电性能及介电性能分析 | 第85-86页 |
| ·退火温度对Ca_(0.4)Sr_(0.6)Bi_4Ti_4O_(15)铁电薄膜材料结构及性能影响 | 第86-90页 |
| ·不同退火温度下的C_(0.4)S_(0.6)BTi薄膜样品的XRD分析 | 第87-88页 |
| ·不同退火温度下的C_(0.4)S_(0.6)BTi薄膜样品的SEM分析 | 第88页 |
| ·不同退火温度下的C_(0.4)S_(0.6)BTi薄膜样品的电滞回线 | 第88-90页 |
| ·退火时间对Ca_(0.4)Sr_(0.6)Bi_4Ti_4O_(15)铁电薄膜的影响 | 第90-91页 |
| ·不同退火时间的C_(0.4)S_(0.6)BTi薄膜样品的XRD和SEM分析 | 第90-91页 |
| ·不同退火时间的C_(0.4)S_(0.6)BTi薄膜样品的铁电性能和介电性能分析 | 第91页 |
| ·退火气氛对Ca_xSr_(1-x)Bi_4Ti_4O_(15)铁电薄膜的影响 | 第91-97页 |
| ·氧气氛下的不同Ca含量薄膜样品的XRD和SEM分析 | 第92-93页 |
| ·氧气氛下退火处理的不同Ca含量薄膜样品的铁电性能分析 | 第93-96页 |
| ·氧气氛和空气气氛退火处理的Ca_(0.4)Sr_(0.6)Bi_4Ti_4O_(15)铁电薄膜电滞回线 | 第96-97页 |
| ·La掺杂改性研究 | 第97-103页 |
| ·La_(2x/3)V_(x/3)(Ca(0.4)Sr(0.6))_(1-x)Bi_4Ti_4O_(15)铁电薄膜的XRD分析 | 第98页 |
| ·La_(2x/3)V_(x/3)(Ca(0.4)Sr(0.6))_(1-x)Bi_4Ti_4O_(15)铁电薄膜的表面形貌 | 第98-99页 |
| ·电学性能 | 第99-103页 |
| ·膜厚对(Ca_(0.4)Sr_(0.6))Bi_4Ti_4O_(15)结构和性能的影响 | 第103-111页 |
| ·不同厚度的CSBTi膜XRD分析 | 第104页 |
| ·不同厚度的CSBT膜AFM分析 | 第104-107页 |
| ·不同厚度的CSBT膜铁电性能分析 | 第107-111页 |
| ·本章小结 | 第111-112页 |
| 第7章 结论及创新点 | 第112-114页 |
| 参考文献 | 第114-122页 |
| 附录A作者攻读博士学位期间发表的相关论文 | 第122-123页 |
| 致谢 | 第123页 |
