| 论文创新点 | 第1-8页 |
| 中文摘要 | 第8-10页 |
| Abstract | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-45页 |
| 1 化学修饰电极 | 第12-27页 |
| ·化学修饰电极的制备与分类 | 第13-20页 |
| ·化学修饰电极的表征 | 第20-27页 |
| 2 化学修饰电极在分析化学中的应用 | 第27-31页 |
| ·电化学传感器 | 第29-31页 |
| 参考文献 | 第31-45页 |
| 第二章 纳米乙炔黑修饰电极测定中药中芦丁的研究 | 第45-52页 |
| 1 引言 | 第45-46页 |
| 2 实验部分 | 第46-47页 |
| ·试剂 | 第46页 |
| ·仪器 | 第46页 |
| ·乙炔黑修饰玻碳电极的制备 | 第46页 |
| ·样品的制备 | 第46-47页 |
| ·分析程序 | 第47页 |
| 3 结果与讨论 | 第47-51页 |
| ·芦丁的电化学行为 | 第47-48页 |
| ·pH 值的影响 | 第48-49页 |
| ·乙炔黑分散液滴涂量的影响 | 第49页 |
| ·富集电位和富集时间的影响 | 第49-50页 |
| ·重现性 | 第50页 |
| ·线性范围和检测限 | 第50页 |
| ·干扰 | 第50页 |
| ·分析应用 | 第50-51页 |
| 4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第三章 氧化石墨烯薄膜电极测定对乙酰氨基酚的研究 | 第52-64页 |
| 1 引言 | 第52-53页 |
| 2 实验部分 | 第53-54页 |
| ·试剂 | 第53页 |
| ·仪器 | 第53页 |
| ·氧化石墨烯的制备 | 第53-54页 |
| ·氧化石墨烯分散液的制备 | 第54页 |
| ·玻碳电极表面的修饰 | 第54页 |
| ·样品制备 | 第54页 |
| ·分析程序 | 第54页 |
| 3 结果与讨论 | 第54-62页 |
| ·氧化石墨烯修饰电极的表面形态学研究 | 第54-55页 |
| ·氧化石墨烯薄膜的电化学增敏效应 | 第55-57页 |
| ·氧化石墨烯的表面富集能力 | 第57-58页 |
| ·支持电解质的影响 | 第58-59页 |
| ·氧化石墨烯分散液用量的影响 | 第59-60页 |
| ·富集电位和富集时间 | 第60-61页 |
| ·精密度、线性范围和检测限 | 第61页 |
| ·分析应用 | 第61-62页 |
| 4. 本章小结 | 第62-64页 |
| 第四章 介孔 SIO_2 修饰碳糊电极测定 5-羟基色氨酸的研究 | 第64-74页 |
| 1 引言 | 第64-65页 |
| 2 实验部分 | 第65-66页 |
| ·试剂 | 第65页 |
| ·仪器 | 第65页 |
| ·介孔 SiO_2的合成与表征 | 第65-66页 |
| ·介孔 SiO_2修饰碳糊电极的制备 | 第66页 |
| ·分析测定程序 | 第66页 |
| 3 结果与讨论 | 第66-73页 |
| ·5-羟基色氨酸的电化学行为研究 | 第66-67页 |
| ·5-羟基色氨酸的氧化机理研究 | 第67-68页 |
| ·5-羟基色氨酸的方波伏安行为 | 第68-69页 |
| ·介孔 SiO_2的含量影响 | 第69-70页 |
| ·富集时间的影响 | 第70-71页 |
| ·线性范围、检出限和重现性 | 第71-72页 |
| ·实际样品检测 | 第72-73页 |
| 4 本章小结 | 第73-74页 |
| 第五章 聚 L-丝氨酸膜修饰电极测定雌二醇 | 第74-80页 |
| 1 引言 | 第74-75页 |
| 2 实验部分 | 第75页 |
| ·试剂 | 第75页 |
| ·仪器 | 第75页 |
| ·聚 L-丝氨酸薄膜修饰玻碳电极的制备 | 第75页 |
| ·电化学测定 | 第75页 |
| 3 结果与讨论 | 第75-79页 |
| ·雌二醇的电化学行为研究 | 第75-77页 |
| ·pH 的影响 | 第77-78页 |
| ·扫描速度的影响 | 第78页 |
| ·线性范围，检测限和重现性 | 第78-79页 |
| ·干扰 | 第79页 |
| ·分析应用 | 第79页 |
| 4 本章小结 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-86页 |
| 攻读学位期间已发表和待发表的研究成果 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 报送博士学位简况表(中文) | 第89-90页 |
| 报送博士学位简况表（英文） | 第90-91页 |