定向沉积技术制备NdFeB系稀土永磁薄膜及其磁学性能的研究
| 学位论文版权使用授权书 | 第1-3页 |
| 独创性声明 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·前言 | 第10-11页 |
| ·磁性起源与磁学基础 | 第11-14页 |
| ·物质磁性的起源及磁性物质分类 | 第11-12页 |
| ·永磁材料的技术磁参量 | 第12-14页 |
| ·NdFeB永磁材料的研究进展和应用 | 第14-16页 |
| ·NdFeB永磁材料的发展 | 第14-15页 |
| ·NdFeB的制备方法 | 第15页 |
| ·NdFeB的应用 | 第15-16页 |
| ·NdFeB永磁薄膜的发展现状 | 第16-19页 |
| ·磁性薄膜的分类 | 第16页 |
| ·磁性薄膜的国内外发展 | 第16-17页 |
| ·NdFeB薄膜的发展现状 | 第17-18页 |
| ·纳米双相NdFeB薄膜磁性能的研究现状 | 第18-19页 |
| ·NdFeB薄膜的应用 | 第19页 |
| ·NdFeB薄膜的制备技术进展 | 第19-21页 |
| ·射频溅射 | 第20页 |
| ·磁控溅射 | 第20页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第20页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第20-21页 |
| ·课题的提出及其意义 | 第21-23页 |
| ·NdFeB稀土永磁薄膜研究中存在的问题 | 第21页 |
| ·选题依据及课题的提出 | 第21-23页 |
| 第二章 试验材料及方法 | 第23-30页 |
| ·试验材料与设备 | 第23-28页 |
| ·试验材料 | 第23页 |
| ·实验设备 | 第23-28页 |
| ·实验方案 | 第28-30页 |
| ·薄膜成分及膜厚对磁学性能的影响 | 第28页 |
| ·定向沉积法对薄膜形貌、磁畴与磁学性能的影响 | 第28-29页 |
| ·实验制备高性能的NdFeB磁性薄膜 | 第29页 |
| ·分析定向沉积的影响机理 | 第29-30页 |
| 第三章 NdFeB薄膜制备参数和主要表征的设计 | 第30-42页 |
| ·制备工艺对薄膜磁学性能的影响 | 第30-36页 |
| ·溅射功率及沉积速率的影响 | 第30-32页 |
| ·预热温度及退火温度的影响 | 第32-36页 |
| ·薄膜主要表征的设计 | 第36-41页 |
| ·薄膜厚度的优化 | 第36-37页 |
| ·NdFeB成分的影响 | 第37-41页 |
| 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 定向沉积制备NdFeB薄膜 | 第42-50页 |
| ·定向沉积技术的定义及实验方法 | 第42-43页 |
| ·定向沉积技术的定义 | 第42页 |
| ·定向沉积技术的操作步骤 | 第42-43页 |
| ·定向沉积技术对薄膜表面形态的影响 | 第43-47页 |
| ·不同热处理条件下薄膜的表面形态 | 第43-46页 |
| ·定向沉积技术制备NdFeB薄膜形态 | 第46-47页 |
| ·定向沉积技术参数的优化 | 第47页 |
| ·定向沉积制备薄膜的取向度 | 第47-49页 |
| 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 定向沉积制备NdFeB薄膜的磁学性能研究 | 第50-59页 |
| ·定向沉积法制备的NdFeB薄膜的磁畴 | 第50-52页 |
| ·磁畴(magnetic domain)的定义 | 第50-51页 |
| ·定向沉积NdFeB薄膜的磁畴 | 第51-52页 |
| ·定向沉积NdFeB薄膜磁各向异性 | 第52-58页 |
| ·晶体磁各向异性的唯象理论 | 第52-53页 |
| ·晶体磁各向异性的产生机制 | 第53-55页 |
| ·定向沉积法制备的NdFeB薄膜的垂直磁各向异性 | 第55-58页 |
| 本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 定向沉积工艺提高薄膜磁学性能的机理 | 第59-70页 |
| ·薄膜成核生长 | 第59-63页 |
| ·自由能函数 | 第59-60页 |
| ·薄膜成核的临界条件 | 第60页 |
| ·薄膜成核 | 第60-63页 |
| ·薄膜生长机制及溅射系统传热分析 | 第63-69页 |
| ·薄膜生长的热力学及动力学 | 第63-64页 |
| ·溅射系统温度场的建立 | 第64-65页 |
| ·定向沉积传热模型 | 第65-69页 |
| 本章小结 | 第69-70页 |
| 第七章 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 在读期间发表的论文 | 第77页 |
