PBAIP等离子体鞘层物理特性的应用研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| ·研究背景 | 第8页 |
| ·电弧离子镀 | 第8-9页 |
| ·脉冲偏压电弧离子镀 | 第9-11页 |
| ·TiN基多组元薄膜及多层薄膜研究进展 | 第11-13页 |
| ·TiO_2薄膜性质以及研究进展 | 第13-14页 |
| ·脉冲偏压等离子体鞘层特性的研究现状 | 第14-15页 |
| ·论文工作的内容与意义 | 第15-17页 |
| 2 脉冲偏压等离子体鞘层特性的理论研究 | 第17-35页 |
| ·脉冲偏压等离子体鞘层流体动力学模型 | 第17-21页 |
| ·脉冲偏压等离子体鞘层时空演化特性的模拟 | 第21-30页 |
| ·脉冲偏压绝缘基板上离子能量分布 | 第30-33页 |
| ·理论计算的定性分析以及对实验的指导意义 | 第33-35页 |
| 3 实验设计与实验方法 | 第35-40页 |
| ·实验设计 | 第35-37页 |
| ·(TiNb)N薄膜的制备 | 第35-36页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第36-37页 |
| ·实验设备简介 | 第37-39页 |
| ·实验方法 | 第39-40页 |
| ·脉冲偏压及偏流的波形检测 | 第39页 |
| ·薄膜结构及性能分析测试方法 | 第39-40页 |
| 4 薄膜沉积实验及其结构与性能表征 | 第40-52页 |
| ·(TiNb)N薄膜沉积实验 | 第40-44页 |
| ·(TiNb)N膜层的沉积工艺参数 | 第40页 |
| ·(TiNb)N薄膜成分分析 | 第40-41页 |
| ·(TiNb)N薄膜的相结构分析 | 第41-44页 |
| ·TiO_2薄膜的制备及性能测试 | 第44-51页 |
| ·膜层的沉积工艺参数 | 第44页 |
| ·Si片上TiO2薄膜的相结构分析 | 第44-48页 |
| ·不锈钢片上TiO2薄膜的相结构分析 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第60页 |
