| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·铁电性与铁电体 | 第10-13页 |
| ·铁电体发展的简史 | 第10页 |
| ·铁电体的概念及特性 | 第10-12页 |
| ·弛豫现象及弛豫铁电体 | 第12-13页 |
| ·薄膜的生长理论，研究进展以及在器件中的应用 | 第13-15页 |
| ·薄膜的生长理论 | 第13-14页 |
| ·铁电薄膜的研究进展及应用前景 | 第14-15页 |
| ·本文研究的主要内容和目标 | 第15-18页 |
| ·问题的提出 | 第15-16页 |
| ·研究的主要目标和内容 | 第16-18页 |
| 第二章 铁电薄膜的主要制备方法及表征手段 | 第18-25页 |
| ·引言 | 第18-20页 |
| ·磁控溅射 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射的特点 | 第21页 |
| ·磁控溅射影响薄膜质量和结构的主要参数 | 第21页 |
| ·主要表征手段 | 第21-25页 |
| ·薄膜结构表征的方法 | 第21-23页 |
| ·薄膜性能表征的方法 | 第23-25页 |
| 第三章 钙钛矿型氧化物导电缓冲层薄膜的制备及电学性能研究 | 第25-33页 |
| ·引言 | 第25-26页 |
| ·LaNi0_3 薄膜的制备、结构及电学性能研究 | 第26-28页 |
| ·LaNi0_3 薄膜的制备 | 第26-27页 |
| ·LaNi0_3 薄膜的结构分析 | 第27页 |
| ·LaNi0_3 薄膜的电学性能研究 | 第27-28页 |
| ·La_(0.6)Sr_(0.4)CoO_3 薄膜的制备、结构及电学性能研究 | 第28-32页 |
| ·La_(0.6)Sr_(0.4)CoO_3 薄膜的制备 | 第28-29页 |
| ·La_(0.6)Sr_(0.4)CoO_3 薄膜的结构分析 | 第29-31页 |
| ·La_(0.6)Sr_(0.4)CoO_3 薄膜的电学性能研究 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 PMN-0.26PT薄膜的制备及其性能的研究 | 第33-54页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·LNO/Si衬底上PMN-0.26PT薄膜的生长、结构及性能研究 | 第33-43页 |
| ·PMN-0.26PT薄膜的生长 | 第33页 |
| ·PMN-0.26PT薄膜的结构 | 第33-36页 |
| ·PMN-0.26PT薄膜的性能 | 第36-43页 |
| ·LSCO/Pt衬底上PMN-0.26PT薄膜的生长、结构及性能研究 | 第43-52页 |
| ·PMN-0.26PT薄膜的生长 | 第43页 |
| ·PMN-0.26PT薄膜的结构 | 第43-46页 |
| ·PMN-0.26PT薄膜的性能 | 第46-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第五章 总结与展望 | 第54-56页 |
| ·总结 | 第54-55页 |
| ·展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 硕士期间发表的论文和专利 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
