直接法合成二甲基二氯硅烷的实验研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 前言 | 第9-11页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-41页 |
| 1．1 有机硅工业的发展历程 | 第11-13页 |
| 1．2 有机硅产品的应用 | 第13-14页 |
| 1．3 有机硅工业现状 | 第14-19页 |
| 1．3．1 有机硅工业发展态势 | 第14-16页 |
| 1．3．2 我国有机硅工业与国外的差距 | 第16-19页 |
| 1．4 直接法合成甲基氯硅烷的研究历程 | 第19-22页 |
| 1．5 直接法反应的机理及特点 | 第22-39页 |
| 1．5．1 反应特点 | 第22-24页 |
| 1．5．2 催化反应机理 | 第24-25页 |
| 1．5．3 反应的影响因素 | 第25-33页 |
| 1．5．4 硅粉和催化剂的改进 | 第33-39页 |
| 1．6 分析测试方法的研究 | 第39-40页 |
| 1．6．1 甲基氯硅烷的分析方法 | 第39-40页 |
| 1．6．2 触体的检测方法 | 第40页 |
| 1．7 课题的提出及研究意义 | 第40-41页 |
| 第二章 试验装置与试验方法 | 第41-50页 |
| 2．1 试验装置 | 第41-45页 |
| 2．1．1 实验反应器 | 第42页 |
| 2．1．2 仪表及控制面板 | 第42-43页 |
| 2．1．3 产物的采样方法 | 第43-44页 |
| 2．1．4 气相色谱 | 第44-45页 |
| 2．2 反应原料 | 第45-47页 |
| 2．2．1 硅粉及其物性表征 | 第45-46页 |
| 2．2．2 氯甲烷 | 第46-47页 |
| 2．2．3 催化剂及助催化剂 | 第47页 |
| 2．3 实验方法 | 第47-50页 |
| 2．3．1 实验前准备工作 | 第47-48页 |
| 2．3．2 反应器加热与温度控制 | 第48-49页 |
| 2．3．3 采样与反应器的清洗 | 第49页 |
| 2．3．4 产物的检测分析 | 第49-50页 |
| 第三章 甲基氯硅烷产物的分析测试 | 第50-61页 |
| 3．1 仪器与操作条件 | 第50-51页 |
| 3．1．1 仪器与试剂 | 第50页 |
| 3．1．2 操作条件 | 第50-51页 |
| 3．2 产物的 GC-MS的定性分析 | 第51-54页 |
| 3．3 产物的气相色谱定量分析 | 第54-60页 |
| 3．3．1 气相色谱分析方法的确定 | 第54页 |
| 3．3．2 气相色谱的内标标准曲线 | 第54-55页 |
| 3．3．3 色谱柱的选择及条件设定 | 第55-57页 |
| 3．3．4 进样方式的选择 | 第57-58页 |
| 3．3．5 内标标准曲线法 | 第58-59页 |
| 3．3．6 内标法的准确度和精密度 | 第59-60页 |
| 3．4 小结 | 第60-61页 |
| 第四章 氯甲烷合成实验结果分析 | 第61-82页 |
| 4．1 临界流化气速的测定 | 第61-62页 |
| 4．2 第一阶段实验反应器内温度分布 | 第62-64页 |
| 4．3 第一阶段实验产物及结果分析 | 第64-74页 |
| 4．3．1 诱导期 | 第65-67页 |
| 4．3．2 选择性 | 第67-70页 |
| 4．3．3 组分分析 | 第70-73页 |
| 4．3．4 反应器内部积炭图片 | 第73页 |
| 4．3．5 反应前后硅粉表面电镜比较 | 第73-74页 |
| 4．4 第二阶段实验反应器内温度分布 | 第74-76页 |
| 4．5 第二阶段产物及结果分析 | 第76-81页 |
| 4．5．1 选择性 | 第76-78页 |
| 4．5．2 组分分析 | 第78-81页 |
| 4．6 小结 | 第81-82页 |
| 第五章 结论 | 第82-83页 |
| 主要符号说明 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-88页 |
| 致谢 | 第88页 |
