| 第一章 前言 | 第1-20页 |
| 1．1 衍射光学元件进展 | 第9-10页 |
| 1．2 严格矢量理论 | 第10-12页 |
| 1．3 光栅参数测量方法 | 第12-14页 |
| 1．4 优化设计及其在一种抗反射膜设计上的应用 | 第14-16页 |
| 1．5 本论文主要内容 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-20页 |
| 第二章 电磁场理论和傅立叶模式理论 | 第20-38页 |
| 2．1 电磁场基本规律 | 第20-24页 |
| 2．1．1 电磁场的基本方程 | 第20页 |
| 2．1．1．1 麦克斯韦方程组的微分形式 | 第20页 |
| 2．1．1．2 边值关系 | 第20页 |
| 2．1．2 时谐电磁场方程 | 第20-21页 |
| 2．1．3 亥姆霍兹方程 | 第21-22页 |
| 2．1．4 电磁场的决定性分量数 | 第22页 |
| 2．1．5 平面电磁波 | 第22-23页 |
| 2．1．6 电磁场的唯一性定理及其作用 | 第23-24页 |
| 2．2 基于傅立叶模式理论的光栅衍射效率的推导 | 第24-33页 |
| 2．2．1 光栅模型 | 第24-25页 |
| 2．2．2 傅立叶模式理论 | 第25-27页 |
| 2．2．3 非光栅层(单一均匀介质层)中的本征模式场和本征值 | 第27-29页 |
| 2．2．4 光栅层中的本征模式场和本征值 | 第29-31页 |
| 2．2．4．1 光栅层1中E_y~l和H_y~l满足的微分议程和边界条件 | 第29-30页 |
| 2．2．4．2 光栅层中的基本模式场 | 第30-31页 |
| 2．2．5 RTCM递推算法，反射率与透射率 | 第31-33页 |
| 2．3 用 RTCM递推算法计算多层薄膜的透射率 | 第33-36页 |
| 2．3．1 s波的反射和透射 | 第33-35页 |
| 2．3．2 p波的反射和透射 | 第35页 |
| 2．3．3 反射率和透射率 | 第35-36页 |
| 2．4小结 | 第36页 |
| 参考文献 | 第36-38页 |
| 第三章 优化设计 | 第38-51页 |
| 3．1 优化设计发展概况 | 第38-39页 |
| 3．2 优化设计的数学模型 | 第39-42页 |
| 3．2．1 设计变量 | 第40页 |
| 3．2．2 目标函数 | 第40-41页 |
| 3．2．3 约束函数 | 第41页 |
| 3．2．4 优化设计分类 | 第41-42页 |
| 3．3 优化算法简介 | 第42-48页 |
| 3．3．1 正单纯形法 | 第42-44页 |
| 3．3．2 遗传算法 | 第44-46页 |
| 3．3．3 神经网络优化算法与模拟退火算法 | 第46-48页 |
| 3．3．4 混沌优化算法 | 第48页 |
| 3．4 小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 第四章 亚波长光栅参数测量 | 第51-68页 |
| 4．1 理论模拟光栅模型 | 第51-53页 |
| 4．2 用透射光谱法模拟测量光栅参数的原理 | 第53-54页 |
| 4．2．1 傅立叶模式理论与反射透射系数算法(RTCM) | 第53页 |
| 4．2．2 评价函数 | 第53-54页 |
| 4．3 各种光栅的透射光谱图 | 第54-56页 |
| 4．4 数值计算 | 第56-60页 |
| 4．4．1 评价函数随各个参数的误差的变化情况 | 第56-59页 |
| 4．4．2 反演结果 | 第59-60页 |
| 4．5 实验上的探索 | 第60-66页 |
| 4．5．1 实验装置与光栅模型 | 第61-62页 |
| 4．5．2 光栅正负一级能量之比 | 第62-64页 |
| 4．5．3 实验结果 | 第64-66页 |
| 4．6 小结 | 第66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 第五章 全抗反射膜的设计 | 第68-79页 |
| 5．1 抗反射膜的基本类型 | 第69-70页 |
| 5．2 基本设计方法 | 第70-72页 |
| 5．2．1 宽角度抗反射膜设计中存在的困难 | 第70-71页 |
| 5．2．2 折射率渐变的多层抗反射膜 | 第71-72页 |
| 5．3 双材料嵌套全抗反射膜的设计 | 第72-76页 |
| 5．4 小结 | 第76页 |
| 参考文献 | 第76-79页 |
| 第六章 总结 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 附录 | 第82-83页 |
| 声明 | 第83页 |
