| 第1章 文献综述 | 第1-28页 |
| ·POSS及其结构 | 第13-14页 |
| ·POSS的合成及官能化 | 第14-18页 |
| ·POSS的合成 | 第14-16页 |
| ·水/丙酮介质中的水解 | 第14-16页 |
| ·含部分水金属盐存在下的氯硅烷水解反应制取POSS | 第16页 |
| ·以((CH3)4N)8Si8O20为基础的反应 | 第16页 |
| ·POSS的官能化 | 第16-18页 |
| ·“顶角-戴帽”法 | 第17页 |
| ·官能团转化法 | 第17-18页 |
| ·POSS的应用 | 第18-20页 |
| ·光固化树脂 | 第19页 |
| ·多孔材料 | 第19-20页 |
| ·耐热阻燃材料 | 第20页 |
| ·改性高分子材料 | 第20页 |
| ·环氧树脂的发展与现状 | 第20-27页 |
| ·环氧树脂的定义 | 第21-22页 |
| ·环氧树脂的特性 | 第22-23页 |
| ·环氧树脂的品种 | 第23-25页 |
| ·环氧树脂的固化 | 第25-26页 |
| ·高性能环氧树脂应用 | 第26-27页 |
| ·结束语 | 第27-28页 |
| 第2章 目的意义和实验方案 | 第28-30页 |
| ·目的和意义 | 第28页 |
| ·实验方案 | 第28-30页 |
| 第3章 实验部分 | 第30-35页 |
| ·测试仪器及方法 | 第30页 |
| ·化学试剂与原料 | 第30-31页 |
| ·未完全缩合三羟基硅氧烷T7的制备 | 第31页 |
| ·POSS 1(T8)的合成 | 第31-32页 |
| ·溶剂的处理 | 第32页 |
| ·四氢呋喃的除水 | 第32页 |
| ·吡啶的除水 | 第32页 |
| ·POSS 1(T8)的合成 | 第32页 |
| ·POSS 2的合成 | 第32页 |
| ·POSS 3的合成 | 第32-33页 |
| ·三乙胺的除氧 | 第33页 |
| ·POSS 3的合成 | 第33页 |
| ·复合材料的制备 | 第33-35页 |
| ·固化剂的用量 | 第33页 |
| ·样条的制备 | 第33-35页 |
| 第4章 结果与讨论 | 第35-71页 |
| ·结构表征 | 第35-43页 |
| ·POSS 1的结构表征 | 第35-38页 |
| ·POSS 2的结构表征 | 第38-40页 |
| ·POSS 3的结构表征 | 第40-43页 |
| ·合成路线及机理 | 第43-48页 |
| ·未完全缩合三羟基硅氧烷T7的制备 | 第43-44页 |
| ·POSS 1的合成 | 第44页 |
| ·POSS 2的合成 | 第44-46页 |
| ·POSS 2的合成方法 | 第44-45页 |
| ·合成机理的探讨 | 第45-46页 |
| ·POSS 3的合成 | 第46-48页 |
| ·合成方法 | 第46页 |
| ·合成机理的探讨 | 第46-47页 |
| ·合成路线适用性的探讨 | 第47-48页 |
| ·晶体结构表征 | 第48-58页 |
| ·理论基础 | 第48-51页 |
| ·Ito法处理X射线粉末衍射图 | 第48-49页 |
| ·尝试法处理X射线粉末衍射图 | 第49-51页 |
| ·POSS 1，2，3粉末图的指标化 | 第51-58页 |
| ·倒易晶胞参数的求算 | 第56-57页 |
| ·正当晶胞的求算 | 第57页 |
| ·晶胞参数精修 | 第57页 |
| ·指标化结果的可信度 | 第57-58页 |
| ·系统消光与空间群 | 第58页 |
| ·Epoxy/POSS的性能研究 | 第58-71页 |
| ·官能化POSS与环氧树脂的反应机理 | 第58页 |
| ·POSS与基体的相容性 | 第58-59页 |
| ·环氧树脂/POSS复合材料的热性能 | 第59-65页 |
| ·环氧树脂/POSS复合材料的粘弹性 | 第65-71页 |
| 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 硕士期间发表学术论文目录 | 第77页 |