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SiC陶瓷胶态成型制备的研究

第1章 绪论第1-15页
   ·陶瓷材料胶态成型制备的研究现状第7-9页
   ·高固相含量料浆的制备与陶瓷粉体的表面改性第9-11页
   ·论文研究的内容和意义第11-15页
     ·论文研究工作的重要意义第11-14页
     ·论文研究的主要内容第14-15页
第2章 改性SiC粉体的制备第15-25页
   ·实验原料第15-16页
     ·SiC粉体第15-16页
     ·辅助原料及化学试剂第16页
   ·有机包覆SiC粉体的工艺第16-20页
     ·有机包覆体系第16-17页
     ·包覆工艺流程第17-18页
     ·SiC粉的预处理第18页
     ·偶联剂包覆SiC粉的工艺第18-19页
     ·SiC粉包覆分散功能层的工艺过程第19-20页
   ·影响包覆改性效果的工艺因素第20-25页
     ·偶联剂种类对料浆分散最大固含量的影响第20-21页
     ·偶联剂种类对双层包覆粉体分散固含量的影响第21页
     ·单体接枝聚合反应条件的影响第21-25页
第3章 改性SiC粉体表面结构和性能的表征第25-35页
   ·改性SiC粉体的定性分析第25-30页
     ·粉体的X-射线衍射分析第25-26页
     ·粉体的TEM测试分析第26页
     ·粉体的DSC-TG测试分析第26-27页
     ·粉体的红外光谱分析第27-30页
   ·改性SiC粉体悬浮液的离子电导率第30-31页
   ·改性SiC粉体水基分散的润湿性和稳定性第31-35页
     ·SiC粉体的润湿性第31-33页
     ·SiC粉体的分散稳定性第33-35页
第4章 表面改性对水基分散SiC料浆流动性能的影响及其分散机制第35-50页
   ·原始SiC粉体的Zeta电位与料浆流动特性第35-37页
     ·原始SiC粉体胶粒的Zeta电位第35-36页
     ·原始SiC粉体料浆的流动特性第36-37页
   ·改性SiC粉体的Zeta电位与料浆流动特性第37-44页
     ·偶联剂包覆粉体的Zeta电位第37-39页
     ·偶联剂包覆粉体的分散与流动特性第39-40页
     ·双层包覆粉体的Zeta电位第40-41页
     ·双层包覆SiC粉体的分散及流动特性第41-44页
   ·改性SiC粉体的分散机制第44-50页
     ·稳定分散理论第44-45页
     ·偶联剂包覆粉体的稳定分散机制第45-46页
     ·双层包覆粉体的分散机制第46-50页
第5章 胶态成型制备SiC陶瓷坯体第50-59页
   ·高固相含量料浆的制备第50-52页
   ·坯体成型工艺第52-56页
     ·注浆成型碳化硅陶瓷坯体第52-54页
     ·反应烧结碳化硅陶瓷坯体的成型第54-56页
   ·成型坯体的性能第56-59页
     ·成型坯体的均一性第56-58页
     ·成型坯体的抗折强度第58-59页
第6章 结论第59-61页
参考文献第61-66页
硕士期间发表的论文第66-67页
致谢第67页

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