| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·磁性及磁性材料 | 第10-11页 |
| ·微磁能 | 第11-14页 |
| ·交换能 | 第11-12页 |
| ·磁晶各向异性能 | 第12页 |
| ·退磁能 | 第12-13页 |
| ·磁致伸缩能 | 第13-14页 |
| ·外磁场能 | 第14页 |
| ·总磁性能 | 第14页 |
| ·磁畴和畴壁 | 第14-18页 |
| ·磁畴 | 第14-15页 |
| ·畴壁 | 第15-17页 |
| ·磁核 | 第17-18页 |
| ·磁畴转动和畴壁位移 | 第18-19页 |
| ·本论文的选题背景和主要研究内容 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-23页 |
| 第二章 透射电子显微镜 | 第23-39页 |
| ·透射电子显微镜发展历史及科学意义 | 第23-24页 |
| ·透射电子显微镜结构的介绍 | 第24-26页 |
| ·电子枪 | 第25页 |
| ·磁透镜 | 第25-26页 |
| ·透射电子显微镜的测试手段 | 第26-37页 |
| ·电子衍射(ED) | 第26-30页 |
| ·高分辨电子显微术(HRTEM) | 第30-31页 |
| ·X射线能量色散谱(EDX) | 第31-33页 |
| ·扫描透射电子显微术(STEM) | 第33-35页 |
| ·洛伦兹电子显微术(Lorentz TEM) | 第35-37页 |
| 参考文献 | 第37-39页 |
| 第三章 洛伦兹透射电子显微镜的调试 | 第39-44页 |
| ·洛伦兹透射电子显微镜的结构 | 第39-40页 |
| ·洛伦兹模式的调试 | 第40-43页 |
| 参考文献 | 第43-44页 |
| 第四章 各种缺陷对坡莫合金薄膜磁化反转影响的洛伦兹电子显微研究 | 第44-72页 |
| ·样品制备方法 | 第44页 |
| ·铜网碳膜上孔洞缺陷对坡莫合金薄膜磁化反转过程的影响 | 第44-50页 |
| ·孔洞缺陷的结构成分分析及形成原因 | 第44-46页 |
| ·孔洞缺陷处的磁矩分布 | 第46-48页 |
| ·孔洞缺陷处的原位磁化反转研究 | 第48-50页 |
| ·M型钡铁氧体纳米线缺陷对坡莫合金薄膜磁化反转过程的影响 | 第50-63页 |
| ·溅射合金膜之前的M型钡铁氧体纳米线的透射电镜表征 | 第50-51页 |
| ·团聚体缺陷的常规及洛伦兹透射电镜表征 | 第51-56页 |
| ·线缺陷平行于畴壁情况下的洛伦兹透射电镜表征 | 第56-58页 |
| ·线缺陷垂直于畴壁情况下的洛伦兹透射电镜表征 | 第58-60页 |
| ·线缺陷附近磁矩一致连续翻转情况下的洛伦兹透射电镜表征 | 第60-63页 |
| ·四氧化三铁团聚体缺陷对坡莫合金薄膜磁化反转过程的影响 | 第63-65页 |
| ·团聚体缺陷的常规透射电镜表征 | 第63-64页 |
| ·团聚体缺陷处的原位磁化反转研究 | 第64-65页 |
| ·镍纳米线缺陷对坡莫合金薄膜磁化反转过程的影响 | 第65-68页 |
| ·线缺陷的常规透射电镜表征 | 第65-67页 |
| ·线缺陷处的原位磁化反转研究 | 第67-68页 |
| ·氧化锡纳米颗粒聚体缺陷对坡莫合金薄膜磁化反转过程的影响 | 第68-71页 |
| ·团聚体缺陷的常规透射电镜表征 | 第68-70页 |
| ·团聚体聚体缺陷处的原位磁化反转研究 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-72页 |
| 第五章 总结 | 第72-74页 |
| 在学期间的硏究成果 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
