直流反应磁控溅射法制备新型透明导电ZnO：Mo薄膜的研究

摘要	第1-6页
Abstract	第6-7页
第一章 绪论	第7-23页
·透明导电氧化物薄膜概述	第7-8页
·透明导电薄膜的应用	第8-13页
·平板显示器	第9-10页
·太阳能电池	第10-12页
·在其他方面的应用	第12-13页
·透明导电薄膜的制备方法	第13-19页
·磁控溅射法	第13-14页
·其它制备方法	第14-19页
·透明导电薄膜的研究发展方向	第19-21页
·高迁移率TCO薄膜	第19-20页
·柔性衬底制备TCO薄膜	第20-21页
·本文研究的目的及意义	第21-23页
第二章 薄膜的性能表征	第23-31页
·薄膜的结构表征	第23-24页
·形貌分析	第24-26页
·薄膜的光学性能表征	第26页
·薄膜的电学性能表征	第26-29页
·薄膜的厚度测试	第29-31页
第三章 透明导电ZMO薄膜的制备	第31-35页
·金属镶嵌靶材的制备	第31-32页
·直流磁控反应溅射制备ZMO薄膜	第32-35页
第四章 透明导电ZMO薄膜的性能研究	第35-49页
·表面形貌	第35-36页
·ZMO薄膜的结构特性	第36-38页
·ZMO薄膜的电学性能	第38-44页
·ZMO薄膜的导电机制	第38-42页
·制备参数对薄膜电阻的影响	第42-44页
·ZMO薄膜的光学性能	第44-49页
·薄膜的光学性能	第44-47页
·制备参数对薄膜透射率的影响	第47-49页
第五章 全文总结	第49-51页
参考文献	第51-56页
附录 攻读硕士期间发表的文章	第56-57页
致谢	第57-59页