| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-33页 |
| ·ZnO 的结构与性能 | 第10-24页 |
| ·ZnO 的晶格结构 | 第10-12页 |
| ·ZnO 的能带结构及其固有缺陷 | 第12-14页 |
| ·ZnO 薄膜的光学特性 | 第14-15页 |
| ·ZnO 薄膜的光致发光特性 | 第15-16页 |
| ·ZnO 薄膜的电学特性 | 第16-19页 |
| ·ZnO 薄膜的n 型掺杂 | 第19-21页 |
| ·ZnO 薄膜的p 型掺杂 | 第21-23页 |
| ·ZnO 材料与自旋电子学 | 第23-24页 |
| ·ZnO 薄膜的应用 | 第24-26页 |
| ·ZnO 薄膜用作透明导电氧化物薄膜 | 第24页 |
| ·ZnO 薄膜用作透明电极 | 第24-25页 |
| ·ZnO 薄膜用作吸波材料 | 第25-26页 |
| ·场致发射显示器(FED) | 第26页 |
| ·ZnO 材料研究面临的问题 | 第26-27页 |
| ·本文研究的思路和主要内容 | 第27-29页 |
| 参考文献 | 第29-33页 |
| 第二章 ZnO 薄膜的制备和表征 | 第33-47页 |
| ·磁控溅射技术 | 第33-37页 |
| ·磁控溅射技术 | 第33-34页 |
| ·磁控溅射实验装置 | 第34-35页 |
| ·设备的主要技术参数 | 第35-37页 |
| ·ZnO 薄膜的其它制备技术 | 第37-42页 |
| ·原子层外延法（ALE） | 第37页 |
| ·分子束外延技术(MBE) | 第37-38页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积技术(PECVD) | 第38页 |
| ·固态源化学气相沉积(SSCVD) | 第38-39页 |
| ·金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD) | 第39-40页 |
| ·激光脉冲沉积(PLD)法 | 第40-41页 |
| ·溶胶一凝胶法(Sol-Gel) | 第41页 |
| ·喷雾热解法（Spray Pyrolysis） | 第41-42页 |
| ·基片的清洗 | 第42-43页 |
| ·样品沉积参数 | 第43-44页 |
| ·薄膜的表征 | 第44-46页 |
| ·膜厚的测量 | 第44页 |
| ·X 射线衍射分析(XRD) | 第44页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第44页 |
| ·扫描电子显微镜分析（SEM） | 第44页 |
| ·X 射线光电子谱（XPS） | 第44-45页 |
| ·傅立叶变换红外光谱分析(FTIR) | 第45页 |
| ·荧光光谱仪 | 第45页 |
| ·紫外透射和吸收谱 | 第45页 |
| ·Raman 光谱分析 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第三章 沉积气压对不同气氛的ZnO 薄膜的结构与光学性能影响 | 第47-61页 |
| ·ZnO 薄膜的结构 | 第48-56页 |
| ·薄膜的XRD 分析 | 第48-52页 |
| ·ZnO 薄膜的形貌 | 第52-56页 |
| ·ZnO 薄膜的光学性质 | 第56-59页 |
| ·ZnO 薄膜的透射谱分析 | 第56-58页 |
| ·ZnO 薄膜的PL 谱分析 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-61页 |
| 第四章 沉积气压对Zn_(0.975)Cu_(0.025)O 结构的影响 | 第61-69页 |
| ·25% N_2 气氛下Zn_(0.975)Cu_(0.025)O 薄膜的结 | 第61-64页 |
| ·25% N_2 气氛下Zn_(0.975)Cu_(0.025)O 薄膜的形 | 第64-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-69页 |
| 第五章 讨论与结论 | 第69-71页 |
| 硕士期间发表论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 详细摘要 | 第73-75页 |
