熔锥型波分复用器的制作工艺研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| ·波分复用技术简介 | 第8-10页 |
| ·波分复用的发展及应用 | 第10-11页 |
| ·波分复用器的种类 | 第11-17页 |
| ·波分复用器种类 | 第11-14页 |
| ·DWDM器件 | 第14-17页 |
| 2 光纤中的光波导理论 | 第17-22页 |
| ·光在介质界面的传播特性 | 第17-18页 |
| ·光密介质中的波场 | 第18-19页 |
| ·光疏介质的场(消逝波) | 第19-20页 |
| ·阶跃光纤中光波导的场方程 | 第20-22页 |
| 3 光耦合器 | 第22-29页 |
| ·光耦合器简介及特性参数 | 第22-23页 |
| ·熔融拉锥型光纤耦合器 | 第23-26页 |
| ·对熔融型耦合器的简单认识 | 第23页 |
| ·耦合模理论 | 第23-25页 |
| ·耦合系数弱融模拟 | 第25-26页 |
| ·耦合系数强融模拟 | 第26页 |
| ·光波分复用器特性 | 第26-28页 |
| ·熔融耦合器的热力学理论 | 第28-29页 |
| ·有效加热时间 | 第28页 |
| ·熔融激活能量 | 第28-29页 |
| ·耦合器制作过程中氢氧根含量增加 | 第29页 |
| ·耦合区截面形状与隔离度的关系 | 第29页 |
| 4. 波分复用器的制备及测试 | 第29-40页 |
| ·实验设备 | 第30-34页 |
| ·波分复用器制备 | 第34-37页 |
| ·制备方法 | 第34-35页 |
| ·制备具体过程 | 第35-37页 |
| ·器件封装 | 第37-39页 |
| ·封装原理 | 第37-38页 |
| ·封装过程 | 第38-39页 |
| ·特性参数的测试 | 第39-40页 |
| 5 制作工艺参数对器件各项性能的影响 | 第40-51页 |
| ·熔融拉锥曲线的模拟 | 第41-43页 |
| ·拉锥周期对WDM性能的影响 | 第43-45页 |
| ·对信道间隔影响实验与分析 | 第43-44页 |
| ·对隔离度影响的实验分析总结 | 第44-45页 |
| ·氢气流量对器件各项性能的影响 | 第45-48页 |
| ·氢气流量对WDM信道间隔的影响 | 第45-46页 |
| ·氢气流量对WDM隔离度的影响 | 第46-48页 |
| ·拉锥速度对器件各项性能的影响 | 第48-51页 |
| ·拉锥速度对信道间隔的影响 | 第48-49页 |
| ·拉锥速度对WDM隔离度的影响 | 第49-50页 |
| ·拉锥速度对附加损耗EL的影响 | 第50-51页 |
| ·其他制作参数对器件各项性能的影响 | 第51页 |
| 6 1310/1550WDM的制作 | 第51-52页 |
| ·在制作WDM中如何选取各制作参数 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
