液相沉淀法制备高纯纳米氧化镁的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 第一章 纳米氧化镁的性质、用途和国内外现状 | 第11-18页 |
| ·纳米粒子的基本物理效应和性质 | 第11-14页 |
| ·纳米粒子的基本物理效应 | 第11-12页 |
| ·纳米氧化镁的性质 | 第12-14页 |
| ·纳米氧化镁的用途 | 第14-15页 |
| ·纳米氧化镁国内外研究现状 | 第15-16页 |
| ·选题的目的与意义 | 第16-17页 |
| ·论文研究的主要内容 | 第17-18页 |
| 第二章 纳米氧化镁表面改性的理论分析 | 第18-22页 |
| ·粉体表面改性必要性及目的 | 第18页 |
| ·纳米粒子表面改性的内容和方法 | 第18-19页 |
| ·纳米粒子表面改性的内容 | 第18-19页 |
| ·纳米微粒表面改性的方法 | 第19页 |
| ·纳米微粒的改性机理分析 | 第19-22页 |
| ·纳米氧化镁的结构和性能 | 第19-20页 |
| ·表面活性剂的改性原理 | 第20页 |
| ·表面改性剂控制纳米微粒大小、形状的原理 | 第20-21页 |
| ·表面改性剂改善纳米微粒表面性能的原理 | 第21-22页 |
| 第三章 硫酸镁的制备 | 第22-26页 |
| ·所用原料及仪器设备 | 第22页 |
| ·研究方案 | 第22-23页 |
| ·结果及讨论 | 第23-24页 |
| ·初始硫酸铵浓度对浸出率的影响 | 第23页 |
| ·反应时间对浸出率的影响 | 第23-24页 |
| ·反应温度对浸出率的影响 | 第24页 |
| ·本章小结 | 第24-26页 |
| 第四章 纳米氧化镁制备工艺研究 | 第26-41页 |
| ·所用原料及仪器设备 | 第26-27页 |
| ·研究方案 | 第27-28页 |
| ·研究方法 | 第27页 |
| ·工艺流程 | 第27-28页 |
| ·产品及中间产物的分析测试 | 第28-30页 |
| ·粒度分析 | 第28页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第28-29页 |
| ·扫描电镜观察(SEM) | 第29页 |
| ·差热分析(DSC) | 第29-30页 |
| ·实验研究 | 第30-32页 |
| ·单因素方法 | 第30-31页 |
| ·工艺条件优化 | 第31-32页 |
| ·实验结果及讨论 | 第32-37页 |
| ·干燥条件的确定 | 第32页 |
| ·煅烧条件的确定 | 第32-33页 |
| ·表面改性剂的确定 | 第33页 |
| ·物料配比 | 第33-34页 |
| ·反应温度 | 第34-35页 |
| ·反应时间 | 第35页 |
| ·碳酸铵浓度 | 第35页 |
| ·硫酸镁浓度 | 第35-36页 |
| ·前驱体制备条件优化 | 第36-37页 |
| ·产品表征 | 第37-39页 |
| ·粒度分析 | 第38页 |
| ·XRD分析 | 第38-39页 |
| ·SEM观察 | 第39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第五章 纳米氧化镁制备过程扩大研究 | 第41-56页 |
| ·所用原料和仪器 | 第41-43页 |
| ·研究方案 | 第43-44页 |
| ·研究方法 | 第43页 |
| ·工艺流程 | 第43-44页 |
| ·产品及中间产物的分析测试 | 第44页 |
| ·实验研究 | 第44-46页 |
| ·单因素方法 | 第44-46页 |
| ·工艺条件优化 | 第46页 |
| ·实验结果及讨论 | 第46-52页 |
| ·表面改性剂的复配 | 第46-47页 |
| ·表面改性剂用量 | 第47页 |
| ·物料配比 | 第47-48页 |
| ·反应温度 | 第48页 |
| ·反应时间 | 第48-49页 |
| ·碳酸铵浓度 | 第49-50页 |
| ·硫酸镁浓度 | 第50页 |
| ·前驱体制备条件优化 | 第50-52页 |
| ·产品表征 | 第52-55页 |
| ·粒度分析 | 第52页 |
| ·XRD分析 | 第52-53页 |
| ·SEM观察 | 第53页 |
| ·纯度分析 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第六章 结论与展望 | 第56-57页 |
| ·结论 | 第56页 |
| ·本论文的创新性 | 第56页 |
| ·展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 附录一:纯度测定方案 | 第62-71页 |
