| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| ·费-托合成研究背景以及现状 | 第11-12页 |
| ·费-托合成反应和产物分布 | 第12-13页 |
| ·钴基费-托合成催化剂 | 第13-18页 |
| ·载体的影响 | 第14-16页 |
| ·制备方法的影响 | 第16-18页 |
| ·中孔分子筛 | 第18-23页 |
| ·中孔分子筛的形成机理 | 第18-20页 |
| ·中孔分子筛的性能 | 第20页 |
| ·中孔分子筛的改性 | 第20页 |
| ·中孔分子筛SBA-15 | 第20-22页 |
| ·中孔分子筛KIT-6 | 第22-23页 |
| ·本论文目的和研究思路 | 第23-24页 |
| 第二章 实验部分 | 第24-29页 |
| ·催化剂制备 | 第24页 |
| ·试剂 | 第24页 |
| ·催化剂制备方法 | 第24页 |
| ·催化剂表征 | 第24-27页 |
| ·元素分析 | 第24页 |
| ·孔结构测试 | 第24-25页 |
| ·X-射线粉末衍射 | 第25页 |
| ·透射电子显微镜 | 第25页 |
| ·氢气程序升温还原 | 第25-26页 |
| ·氢气程序升温脱附与氧滴定 | 第26-27页 |
| ·费-托合成反应活性测试 | 第27-29页 |
| 第三章 氨基化修饰的SBA-15 负载的钴基费-托合成催化剂还原性能研究 | 第29-37页 |
| ·实验 | 第29-31页 |
| ·SBA-15 的合成 | 第29-30页 |
| ·SBA-15 的氨基化修饰 | 第30页 |
| ·钴催化剂的制备 | 第30-31页 |
| ·样品的表征 | 第31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-36页 |
| ·孔结构测试结果 | 第31页 |
| ·X-射线衍射 | 第31-34页 |
| ·氢气程序升温还原 | 第34-35页 |
| ·透射电子显微镜 | 第35-36页 |
| ·结论 | 第36-37页 |
| 第四章 硅烷化的SBA-15 负载的钴基费-托合成催化剂性能研究 | 第37-44页 |
| ·实验 | 第37-38页 |
| ·SBA-15 的制备 | 第37页 |
| ·SBA-15 的硅烷化 | 第37-38页 |
| ·催化剂的制备 | 第38页 |
| ·催化剂的表征和性能评价 | 第38页 |
| ·结果和讨论 | 第38-43页 |
| ·载体和催化剂的孔结构 | 第38-41页 |
| ·催化剂的还原性 | 第41-42页 |
| ·费-托合成 | 第42-43页 |
| ·结论 | 第43-44页 |
| 第五章 KIT-6 负载的钴基费-托合成催化剂性能研究 | 第44-55页 |
| ·实验 | 第44-45页 |
| ·KIT-6 的合成 | 第44-45页 |
| ·KIT-6 的水热稳定性测试 | 第45页 |
| ·催化剂制备 | 第45页 |
| ·催化剂的表征方法以及催化剂的性能评价 | 第45页 |
| ·结果和讨论 | 第45-53页 |
| ·N_2 吸附-脱附 | 第45-47页 |
| ·X-射线衍射 | 第47-50页 |
| ·透射电子显微镜 | 第50-51页 |
| ·氢气程序升温还原 | 第51页 |
| ·氢气程序升温脱附和氧滴定 | 第51-52页 |
| ·费-托合成催化性能的评价 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 附录 A 攻读学位期间的学术论文及收录情况 | 第67页 |
