| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-40页 |
| ·研究的背景和意义 | 第15-16页 |
| ·汽油中硫化物的性质与分布 | 第16-19页 |
| ·脱硫技术 | 第19-38页 |
| ·加氢脱硫技术 | 第19-21页 |
| ·酸碱精制技术 | 第21-22页 |
| ·氧化脱硫技术 | 第22-24页 |
| ·萃取脱硫技术 | 第24-25页 |
| ·生物脱硫技术 | 第25页 |
| ·络合脱硫技术 | 第25-26页 |
| ·烷基化脱硫技术 | 第26-27页 |
| ·吸附脱硫技术 | 第27-38页 |
| ·吸附脱硫机理 | 第28页 |
| ·汽油吸附脱硫进展 | 第28-33页 |
| ·吸附脱硫工艺 | 第33-38页 |
| ·本论文研究的目的和意义 | 第38-39页 |
| ·本论文的研究内容 | 第39-40页 |
| 第二章 实验原料、装置与实验方法 | 第40-46页 |
| ·原料、试剂和气体 | 第40-41页 |
| ·实验仪器 | 第41页 |
| ·吸附剂的制备 | 第41页 |
| ·吸附剂的活性评价 | 第41-42页 |
| ·脱硫活性指标 | 第42-43页 |
| ·反应产物的分析 | 第43-44页 |
| ·总硫含量分析 | 第43-44页 |
| ·气相色谱（GC-FPD）分析 | 第44页 |
| ·气相色谱-质谱联用（GC-MS）分析 | 第44页 |
| ·吸附剂的表征 | 第44-46页 |
| ·比表面分析（BET） | 第44页 |
| ·X 射线衍射（XRD）分析 | 第44-45页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM-EDS）分析 | 第45页 |
| ·透射电子显微镜（TEM）分析 | 第45页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS）分析 | 第45页 |
| ·热重-差热（TG-DTA）分析 | 第45-46页 |
| 第三章 反应吸附脱除模型化合物中含硫化合物的研究 | 第46-89页 |
| 引言 | 第46-47页 |
| ·吸附剂性质分析 | 第47-53页 |
| ·XRD 表征 | 第47-49页 |
| ·BET 分析 | 第49-51页 |
| ·SEM-EDS 分析 | 第51页 |
| ·XPS 分析 | 第51-52页 |
| ·TEM 分析 | 第52-53页 |
| ·模型化合物的配制 | 第53页 |
| ·MxOy/γ-Al_20_3 吸附剂反应脱硫研究 | 第53-77页 |
| ·NiO/γ-Al_20_3 吸附剂的脱硫研究 | 第53-69页 |
| ·NiO/γ-Al_20_3 吸附剂对噻吩的反应吸附性能 | 第53-58页 |
| ·反应脱除噻吩后模型化合物的分析 | 第58-59页 |
| ·反应脱除噻吩后吸附剂的表征 | 第59-61页 |
| ·NiO/γ-Al_20_3 吸附剂对3-甲基噻吩的反应吸附性能 | 第61-63页 |
| ·反应脱除3-甲基噻吩后模型化合物的分析 | 第63-64页 |
| ·反应脱除3-甲基噻吩后吸附剂的表征 | 第64-65页 |
| ·NiO/γ-Al_20_3 吸附剂对苯并噻吩的反应吸附性能 | 第65-67页 |
| ·反应脱除苯并噻吩后模型化合物的分析 | 第67-68页 |
| ·反应脱除苯并噻吩后吸附剂的表征 | 第68-69页 |
| ·CuO/γ-Al_20_3 吸附剂的脱硫研究 | 第69-73页 |
| ·CuO/γ-Al_20_3 吸附剂对噻吩的反应吸附性能 | 第69-70页 |
| ·CuO/γ-Al_20_3 吸附剂对3-甲基噻吩的反应吸附性能 | 第70-72页 |
| ·CuO/γ-Al_20_3 吸附剂对苯并噻吩的反应吸附性能 | 第72-73页 |
| ·ZnO/γ-Al_20_3 吸附剂的脱硫研究 | 第73-74页 |
| ·NiO-ZnO/γ-Al_20_3 吸附剂的脱硫研究 | 第74-76页 |
| ·CuO-ZnO/γ-Al_20_3 吸附剂的脱硫研究 | 第76-77页 |
| ·M/γ-Al_20_3 吸附剂反应脱硫研究 | 第77-83页 |
| ·Ni/γ-Al_20_3 吸附剂的脱硫研究 | 第77-80页 |
| ·Ni/γ-Al_20_3 吸附剂对噻吩的反应吸附性能 | 第77-78页 |
| ·Ni/γ-Al_20_3 吸附剂对3-甲基噻吩的反应吸附性能 | 第78-79页 |
| ·Ni/γ-Al_20_3 吸附剂对苯并噻吩的反应吸附性能 | 第79-80页 |
| ·Cu/γ-Al_20_3 吸附剂的脱硫研究 | 第80-83页 |
| ·Cu/γ-Al_20_3 吸附剂对噻吩的反应吸附性能 | 第80-81页 |
| ·Cu/γ-Al_20_3 吸附剂对3-甲基噻吩的反应吸附性能 | 第81-82页 |
| ·Cu/γ-Al_20_3 吸附剂对苯并噻吩的反应吸附性能 | 第82-83页 |
| ·噻吩反应的动力学分析 | 第83-85页 |
| ·机理分析 | 第85-87页 |
| ·各含硫化合物性质的分析 | 第85-86页 |
| ·过渡金属原子性质的分析 | 第86-87页 |
| ·脱硫机理 | 第87页 |
| ·本章小结 | 第87-89页 |
| 第四章 反应脱除各馏分段汽油中硫化物的研究 | 第89-102页 |
| 引言 | 第89-90页 |
| ·汽油的分段及分析 | 第90-91页 |
| ·16%NiO/γ-Al_20_3 吸附剂对各馏分段汽油中硫化物的脱除 | 第91-92页 |
| ·还原后16%Ni/γ-Al_20_3 吸附剂对各馏分段汽油中硫化物的脱除 | 第92-94页 |
| ·16%CuO/γ-Al_20_3 吸附剂对各馏分段汽油中硫化物的脱除 | 第94-95页 |
| ·还原后16%Cu/γ-Al_20_3 吸附剂对各馏分段汽油中硫化物的脱除 | 第95-96页 |
| ·12%ZnO/γ-Al_20_3 吸附剂对各馏分段汽油中硫化物的脱除 | 第96-97页 |
| ·反应后16%NiO/γ-Al_20_3 吸附剂表征 | 第97-99页 |
| ·讨论 | 第99-100页 |
| ·积炭形成机理 | 第99-100页 |
| ·影响积炭的因素 | 第100页 |
| ·本章小结 | 第100-102页 |
| 第五章 反应脱除多硫化物模型化合物及FCC 汽油中硫化物的研究 | 第102-113页 |
| 引言 | 第102页 |
| ·反应脱除多硫化物模型化合物中硫化物的研究 | 第102-105页 |
| ·NiO/γ-Al_20_3 吸附剂还原前后的脱硫性能 | 第103-104页 |
| ·CuO/γ-Al_20_3 吸附剂还原前后的脱硫性能 | 第104页 |
| ·12%ZnO/γ-Al_20_3 吸附剂的脱硫性能 | 第104-105页 |
| ·反应脱除FCC 汽油中硫化物的研究 | 第105-108页 |
| ·NiO/γ-Al_20_3 吸附剂还原前后的脱硫性能 | 第105-106页 |
| ·CuO/γ-Al_20_3 吸附剂还原前后的脱硫性能 | 第106-107页 |
| ·ZnO/γ-Al_20_3 吸附剂的脱硫性能 | 第107-108页 |
| ·NiO/γ-Al_20_3 吸附剂脱硫后汽油分析 | 第108-109页 |
| ·NiO/γ-Al_20_3 吸附剂脱硫后模型化合物分析 | 第108页 |
| ·NiO/γ-Al_20_3 吸附剂脱硫后FCC 汽油分析 | 第108-109页 |
| ·反应后NiO/γ-Al_20_3 吸附剂的表征 | 第109-111页 |
| ·本章小结 | 第111-113页 |
| 第六章 吸附剂失活及再生性能研究 | 第113-125页 |
| 引言 | 第113页 |
| ·吸附剂的失活及原因分析 | 第113-119页 |
| ·TG-DTA 分析 | 第113-116页 |
| ·SEM-EDS 分析 | 第116-118页 |
| ·XRD 表征 | 第118页 |
| ·XPS 分析 | 第118-119页 |
| ·吸附剂的再生 | 第119-122页 |
| ·失活吸附剂再生的意义 | 第119页 |
| ·失活吸附剂再生性能研究 | 第119-122页 |
| ·再生后吸附剂表征 | 第122-124页 |
| ·SEM-EDS 分析 | 第122-123页 |
| ·TEM 分析 | 第123页 |
| ·XPS 分析 | 第123-124页 |
| ·本章小结 | 第124-125页 |
| 第七章 结论与建议 | 第125-129页 |
| ·结论 | 第125-127页 |
| ·建议 | 第127-129页 |
| 参考文献 | 第129-139页 |
| 个人简历 | 第139页 |
| 攻读学位期间发表学术论文 | 第139-140页 |
| 致谢 | 第140页 |
