| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-54页 |
| ·引言 | 第13-14页 |
| ·钙钛矿结构氧化物功能材料 | 第14-17页 |
| ·晶体结构 | 第14页 |
| ·晶格畸变 | 第14-16页 |
| ·d轨道在氧八面体晶体场中的分裂 | 第16页 |
| ·Jahn-Teller畸变[5] | 第16-17页 |
| ·铁电薄膜材料的物理基础 | 第17-19页 |
| ·铁电体 | 第17-19页 |
| ·铁电薄膜 | 第19页 |
| ·多铁性材料研究进展 | 第19-24页 |
| ·多铁性材料的概念 | 第19-20页 |
| ·多铁性材料的研究历史和发展概况 | 第20-24页 |
| ·透明导电薄膜基础 | 第24-31页 |
| ·透明导电薄膜的发展和研究概况 | 第24-26页 |
| ·n型透明导电氧化物薄膜 | 第24-25页 |
| ·p型透明导电氧化物薄膜 | 第25-26页 |
| ·透明导电薄膜的电学和光学性质 | 第26-28页 |
| ·透明导电薄膜的导电机制 | 第27页 |
| ·透明导电薄膜的透光机制 | 第27-28页 |
| ·透明导电器件的研究进展 | 第28-31页 |
| ·透明p-n结 | 第28-30页 |
| ·透明场效应管 | 第30-31页 |
| ·小结 | 第31页 |
| ·钙钛矿锰氧化物的基本性质 | 第31-40页 |
| ·研究历史 | 第31-33页 |
| ·晶体结构 | 第33-34页 |
| ·电子结构和双交换作用 | 第34页 |
| ·磁结构和电磁相图 | 第34-35页 |
| ·薄膜方面的研究 | 第35-40页 |
| ·外延薄膜中晶格应力 | 第36-38页 |
| ·晶格应力对于外延薄膜物性的影响 | 第38-40页 |
| ·基于铁电材料的薄膜电子器件 | 第40-43页 |
| ·铁电随机存储 | 第40-42页 |
| ·存储器 | 第40-41页 |
| ·FRAM的历史和发展概况 | 第41-42页 |
| ·铁电场效应管 | 第42-43页 |
| ·阻滞存储 | 第43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-54页 |
| 第二章 样品的制备及性能表征方法 | 第54-68页 |
| ·引言 | 第54-55页 |
| ·脉冲激光沉积技术 | 第54-55页 |
| ·PLD方法制备薄膜的特点 | 第55页 |
| ·外延薄膜及相关器件的制备方法 | 第55页 |
| ·靶材的制备 | 第55页 |
| ·薄膜及器件的制备 | 第55页 |
| ·外延薄膜的结构表征 | 第55-63页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第56页 |
| ·X射线衍射倒易空间 | 第56-59页 |
| ·XRD在薄膜材料结构表征方面的应用 | 第59-63页 |
| ·外延薄膜及相关器件的光、电及磁物性的测量方法 | 第63-65页 |
| ·光学透过率 | 第63-64页 |
| ·表面和截面的形貌表 | 第64页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第64页 |
| ·等离子体原子发射光谱 | 第64-65页 |
| ·铁电特性 | 第65页 |
| ·伏安特性 | 第65页 |
| ·磁性和电阻测量 | 第65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-68页 |
| 第三章 La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3外延薄膜中的面内各向异性 | 第68-83页 |
| ·引言 | 第68-69页 |
| ·样品的制备和实验方法 | 第69-72页 |
| ·La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3多晶靶材的制备 | 第69-70页 |
| ·La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3外延薄膜的制备 | 第70页 |
| ·La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3外延薄膜的XRD结构表征 | 第70-71页 |
| ·La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3外延薄膜的电输运性质测量 | 第71-72页 |
| ·实验结果与讨论 | 第72-77页 |
| ·实验设想 | 第72页 |
| ·XRD数据 | 第72-75页 |
| ·倒易空间图的解释 | 第75-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-83页 |
| 第四章 BiFeO_3铁电薄膜电容器 | 第83-98页 |
| ·引言 | 第83-87页 |
| ·相图和结构 | 第83-84页 |
| ·电导、禁带宽度 | 第84-85页 |
| ·铁电性 | 第85-86页 |
| ·磁性 | 第86页 |
| ·存在的问题 | 第86-87页 |
| ·样品的制备和实验方法 | 第87-88页 |
| ·多晶靶材的制备 | 第87-88页 |
| ·铁电电容器的制备 | 第88页 |
| ·结构、铁电、透光性能和XPS表征 | 第88页 |
| ·实验结果与讨论 | 第88-93页 |
| ·XRD结构表征 | 第88-89页 |
| ·铁电性能的表征 | 第89-91页 |
| ·漏电流的测试 | 第91-92页 |
| ·透光性能 | 第92页 |
| ·XPS分析 | 第92-93页 |
| ·本章小结 | 第93-94页 |
| 参考文献 | 第94-98页 |
| 第五章 La_(0.07)Sr_(0.93)SnO_3\BiFeO_3异质结Ⅰ-Ⅴ特性 | 第98-105页 |
| ·引言 | 第98-99页 |
| ·样品的制备和实验方法 | 第99页 |
| ·多晶靶材的制备 | 第99页 |
| ·异质结的制备和测量 | 第99页 |
| ·实验结果与讨论 | 第99-102页 |
| ·本章小结 | 第102-104页 |
| 参考文献 | 第104-105页 |
| 第六章 Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)铁电薄膜 | 第105-117页 |
| ·引言 | 第105-108页 |
| ·样品的制备和实验方法 | 第108-109页 |
| ·靶材的制备 | 第108页 |
| ·铁电电容器的制备 | 第108-109页 |
| ·结构、铁电性能的表征 | 第109页 |
| ·实验结果与讨论 | 第109-111页 |
| ·XRD结构表征 | 第109-110页 |
| ·铁电性能表征 | 第110-111页 |
| ·本章小节 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-117页 |
| 攻读博士学位期间的学术成果与获奖情况 | 第117-118页 |
| 致谢 | 第118页 |
