大尺寸单晶硅反射镜超精密连续抛光和检测的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·超精密光学元件的基本特征 | 第7-8页 |
| ·超精密光学元件的应用 | 第8页 |
| ·国内大尺寸光学元件超精密抛光技术现状 | 第8-10页 |
| ·强光光学元件基底材料性能 | 第10-12页 |
| ·论文研究内容和工作 | 第12-13页 |
| 第二章 连续抛光技术 | 第13-22页 |
| ·连续抛光技术发展状况 | 第13-14页 |
| ·连续抛光技术原理 | 第14-16页 |
| ·连续抛光材料去除机理 | 第14页 |
| ·环形抛光机工作原理 | 第14-15页 |
| ·环状抛光技术的设备及工艺参数 | 第15-16页 |
| ·连续抛光参量影响因素 | 第16-20页 |
| ·连续抛光技术的优势与局限 | 第20页 |
| ·连续抛光过程中磨削量理论模型 | 第20-22页 |
| 第三章 连续抛光技术抛光单晶硅实验 | 第22-31页 |
| ·实验路线 | 第22-24页 |
| ·表面粗糙度与抛光盘硬度之间的关系 | 第24-25页 |
| ·表面粗糙度随时间变化关系 | 第25-27页 |
| ·抛光过程中温升热变形 | 第27-29页 |
| ·实验结果 | 第29-31页 |
| 第四章 超精密光学元件检测技术的研究 | 第31-44页 |
| ·超精密光学元件检测使用仪器及工作原理 | 第31-34页 |
| ·光腔衰荡光谱法检测单晶硅高反射率腔镜 | 第34-43页 |
| ·光腔衰荡技术的历史与现状 | 第34-35页 |
| ·光腔衰荡技术的基本原理 | 第35-37页 |
| ·检测灵敏度 | 第37-39页 |
| ·高反射率测量系统构建 | 第39-40页 |
| ·检测结果 | 第40-42页 |
| ·光腔衰荡测量装置的优势 | 第42-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 第五章 总结与展望 | 第44-46页 |
| ·论文总结 | 第44-45页 |
| ·前景展望 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
