| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-18页 |
| 1.1 砷 | 第8-10页 |
| 1.1.1 概述 | 第8页 |
| 1.1.2 砷的来源与分布 | 第8-9页 |
| 1.1.3 砷的危害 | 第9-10页 |
| 1.2 铁(羟基)氧化物 | 第10-15页 |
| 1.2.1 概述 | 第10-11页 |
| 1.2.2 铁(羟基)氧化物的溶解 | 第11-15页 |
| 1.3 铁(羟基)氧化物对砷的固定和释放 | 第15-17页 |
| 1.3.1 铁(羟基)氧化物对砷的固定 | 第15-16页 |
| 1.3.2 含砷铁(羟基)氧化物中砷的释放 | 第16-17页 |
| 1.4 选题依据 | 第17-18页 |
| 第二章 含吸附态As(Ⅴ)水铁矿和施氏矿物的光致溶解及As(Ⅴ)的迁移 | 第18-44页 |
| 2.1 引言 | 第18-19页 |
| 2.2 实验部分 | 第19-25页 |
| 2.2.1 实验试剂和设备 | 第19-20页 |
| 2.2.2 水铁矿和施氏矿物的制备 | 第20-21页 |
| 2.2.3 As(Ⅴ)在水铁矿和施氏矿物上的吸附 | 第21-22页 |
| 2.2.4 光致溶解实验 | 第22-23页 |
| 2.2.5 分析方法 | 第23-25页 |
| 2.2.6 表征方法 | 第25页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第25-42页 |
| 2.3.1 合成矿物的表征 | 第25-29页 |
| 2.3.2 纯矿物的光致溶解 | 第29-32页 |
| 2.3.3 Fhy*-As(Ⅴ)和Sch*-As(Ⅴ)的光致溶解 | 第32-36页 |
| 2.3.4 Fhy*-As(Ⅴ)和Sch*-As(Ⅴ)的光致溶解中As(Ⅴ)释放 | 第36-39页 |
| 2.3.5 铁(羟基)氧化物的转化 | 第39-40页 |
| 2.3.6 Fhy*-As(Ⅴ)和Sch*-As(Ⅴ)光致溶解过程中As(Ⅴ)的迁移机制 | 第40-42页 |
| 2.4 小结 | 第42-44页 |
| 第三章 含结构态As(Ⅴ)施氏矿物光致溶解及As(Ⅴ)迁移 | 第44-62页 |
| 3.1 引言 | 第44-45页 |
| 3.2 实验部分 | 第45-46页 |
| 3.2.1 实验试剂和设备 | 第45页 |
| 3.2.2 含结构态As(Ⅴ)施氏矿物的制备 | 第45页 |
| 3.2.3 Sch-As(Ⅴ)中含砷量的确定 | 第45页 |
| 3.2.4 Sch-As(Ⅴ)的光致溶解 | 第45页 |
| 3.2.5 分析方法与样品的表征 | 第45-46页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第46-60页 |
| 3.3.1 Sch-As(Ⅴ)的表征 | 第46-49页 |
| 3.3.2 Sch-As(Ⅴ)的光致溶解 | 第49-51页 |
| 3.3.3 Sch-As(Ⅴ)的光致溶解过程中As(Ⅴ)的释放 | 第51-52页 |
| 3.3.4 高浓度Sch*-As(Ⅴ)和Sch-As(Ⅴ)的光致溶解 | 第52-56页 |
| 3.3.5 高浓度Sch*-As(Ⅴ)和Sch-As(Ⅴ)的光致溶解过程中As(Ⅴ)的迁移 | 第56-59页 |
| 3.3.6 Sch-As(Ⅴ)光致溶解过程中As(Ⅴ)的迁移机制 | 第59-60页 |
| 3.4 小结 | 第60-62页 |
| 第四章 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-72页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
