| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 序言 | 第12-28页 |
| 1.1 薄膜中的扩散 | 第12-17页 |
| 1.1.1 多晶扩散 | 第12-13页 |
| 1.1.2 薄膜中扩散的意义 | 第13-15页 |
| 1.1.3 薄膜中扩散的研究现状 | 第15-17页 |
| 1.2 强磁场对薄膜中扩散影响的可行性分析 | 第17-25页 |
| 1.2.1 强磁场对材料的作用效果 | 第18-20页 |
| 1.2.2 强磁场对相变和扩散的研究现状 | 第20-22页 |
| 1.2.3 磁场对薄膜微观结构和性能的影响 | 第22-25页 |
| 1.3 本文研究目的、意义及主要内容 | 第25-28页 |
| 1.3.1 研究目的和意义 | 第25页 |
| 1.3.2 主要研究内容 | 第25-28页 |
| 第2章 实验及检测方法 | 第28-38页 |
| 2.1 研究方案与思路 | 第28页 |
| 2.2 薄膜扩散偶制备 | 第28-31页 |
| 2.2.1 薄膜制备方法 | 第28-29页 |
| 2.2.2 基底选择与清洗 | 第29页 |
| 2.2.3 制备参数 | 第29-31页 |
| 2.3 强磁场热处理 | 第31-32页 |
| 2.3.1 强磁场热处理装置 | 第31页 |
| 2.3.2 强磁场热处理参数 | 第31-32页 |
| 2.4 检测手段 | 第32-38页 |
| 2.4.1 厚度检测 | 第32页 |
| 2.4.2 微观组织和成分分布检测 | 第32-36页 |
| 2.4.3 磁性能检测 | 第36-38页 |
| 第3章 强磁场对Co单层膜/基底互扩散及磁性能的影响 | 第38-64页 |
| 3.1 引言 | 第38页 |
| 3.2 强磁场对Co(80 nm)/Si(100)互扩散及磁性能的影响 | 第38-52页 |
| 3.2.1 微观结构 | 第39-45页 |
| 3.2.2 互扩散 | 第45-48页 |
| 3.2.3 磁性能 | 第48-52页 |
| 3.3 强磁场对Co(130 nm)/Si(100)互扩散及磁性能的影响 | 第52-61页 |
| 3.3.1 微观结构 | 第52-56页 |
| 3.3.2 互扩散 | 第56-59页 |
| 3.3.3 磁性能 | 第59-61页 |
| 3.4 小结 | 第61-64页 |
| 第4章 强磁场下Co薄膜/基底体系Kirkendall效应 | 第64-80页 |
| 4.1 引言 | 第64页 |
| 4.2 微观结构 | 第64-75页 |
| 4.2.1 相组成 | 第64-66页 |
| 4.2.2 表面形貌 | 第66-69页 |
| 4.2.3 截面形貌 | 第69-74页 |
| 4.2.4 粗糙度 | 第74-75页 |
| 4.3 磁性能 | 第75-77页 |
| 4.4 小结 | 第77-80页 |
| 第5章 强磁场对Co/Cu双层膜互扩散及磁性能的影响 | 第80-96页 |
| 5.1 引言 | 第80页 |
| 5.2 强磁场对Cu/Co/Si(100)互扩散及磁性能的影响 | 第80-90页 |
| 5.2.1 微观结构 | 第81-85页 |
| 5.2.2 互扩散 | 第85-87页 |
| 5.2.3 磁性能 | 第87-90页 |
| 5.3 强磁场对Co/Cu/Si(100)互扩散及磁性能的影响 | 第90-95页 |
| 5.3.1 微观结构 | 第90-91页 |
| 5.3.2 互扩散 | 第91-93页 |
| 5.3.3 磁性能 | 第93-95页 |
| 5.4 小结 | 第95-96页 |
| 第6章 强磁场对Co/Cu/Co/Si(100)三层膜互扩散及磁性能的影响 | 第96-108页 |
| 6.1 引言 | 第96页 |
| 6.2 微观结构 | 第96-100页 |
| 6.2.1 截面形貌 | 第96-98页 |
| 6.2.2 表面形貌及粗糙度 | 第98-100页 |
| 6.3 互扩散 | 第100-102页 |
| 6.4 磁性能 | 第102-105页 |
| 6.5 小结 | 第105-108页 |
| 第7章 强磁场对Co薄膜体系扩散偶互扩散及磁性能影响机制的初步探讨 | 第108-126页 |
| 7.1 引言 | 第108页 |
| 7.2 强磁场对Co薄膜体系扩散偶微观结构的影响机制 | 第108-113页 |
| 7.2.1 相组成 | 第108-110页 |
| 7.2.2 表面形貌 | 第110-113页 |
| 7.3 强磁场对Co薄膜体系互扩散过程的影响机制 | 第113-118页 |
| 7.4 强磁场对Co薄膜体系磁性能的影响机制 | 第118-124页 |
| 7.4.1 强磁场对薄膜饱和磁化强度的影响 | 第118-121页 |
| 7.4.2 强磁场对薄膜矫顽力的影响 | 第121-124页 |
| 7.5 小结 | 第124-126页 |
| 第8章 结论与展望 | 第126-130页 |
| 8.1 主要结论 | 第126-128页 |
| 8.2 未来展望 | 第128-130页 |
| 参考文献 | 第130-142页 |
| 致谢 | 第142-146页 |
| 攻读博士学位期间研究成果 | 第146-148页 |
| 作者简介 | 第148页 |
