| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 分子印迹材料的制备原理 | 第11-14页 |
| 1.3 分子印迹聚合物制备过程中试剂的选择 | 第14-17页 |
| 1.3.1 模板分子的选择 | 第14-15页 |
| 1.3.2 功能单体的正确选择 | 第15页 |
| 1.3.3 交联剂的选择 | 第15-16页 |
| 1.3.4 溶剂(致孔剂)的选择 | 第16-17页 |
| 1.4 聚合方法 | 第17-21页 |
| 1.4.1 本体聚合 | 第17页 |
| 1.4.2 悬浮聚合 | 第17页 |
| 1.4.3 沉淀聚合 | 第17页 |
| 1.4.4 原位聚合 | 第17-18页 |
| 1.4.5 表面分子印迹 | 第18-21页 |
| 1.5 分子印迹技术的应用 | 第21-25页 |
| 1.5.1 分子印迹聚合物在分离技术中的应用 | 第22-23页 |
| 1.5.2 分子印迹聚合物在化学和生物传感器中的应用 | 第23页 |
| 1.5.3 分子印迹聚合物在催化中的应用 | 第23-24页 |
| 1.5.4 分子印迹聚合物在药物缓释中的应用 | 第24-25页 |
| 1.6 本文研究的内容和意义 | 第25-27页 |
| 第二章 β-环糊精包覆SiO_2双功能单体印迹材料的制备及性能研究.. | 第27-45页 |
| 2.1 引言 | 第27-28页 |
| 2.2 实验材料与仪器 | 第28-29页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第28-29页 |
| 2.2.2 实验仪器设备 | 第29页 |
| 2.3 β-CD包覆SiO_2双功能单体槲皮素印迹材料的制备 | 第29-31页 |
| 2.3.1 氨基修饰二氧化硅的制备 | 第29-30页 |
| 2.3.2 β-环糊精包覆二氧化硅的制备 | 第30页 |
| 2.3.3 β-CD@SiO_2印迹材料及非印迹材料的制备 | 第30-31页 |
| 2.3.4 β-CD包覆二氧化硅双功能单体印迹材料的表征 | 第31页 |
| 2.4 β-CD@SiO_2-MIPs与β-CD@SiO_2-NIPs吸附性能测试 | 第31-33页 |
| 2.4.1 β-CD@SiO_2-MIPs与β-CD@SiO_2-NIPs动力学吸附实验 | 第31-32页 |
| 2.4.2 β-CD@SiO_2-MIPs与β-CD@SiO_2-NIPs静态吸附实验 | 第32页 |
| 2.4.3 β-CD@SiO_2-MIPs与β-CD@SiO_2-NIPs的选择性吸附实验 | 第32-33页 |
| 2.5 结果与讨论 | 第33-44页 |
| 2.5.1 基于功能单体与模板分子间作用力的紫外光谱分析 | 第33-35页 |
| 2.5.2 单-6-对甲苯磺酰-β-环糊精结构表征 | 第35-37页 |
| 2.5.3 β-CD@SiO_2印迹材料的红外表征 | 第37-38页 |
| 2.5.4 β-CD@SiO_2印迹材料的热重分析 | 第38页 |
| 2.5.5 β-CD@SiO_2印迹材料的形貌分析 | 第38-39页 |
| 2.5.6 β-CD@SiO_2印迹材料的吸附性能研究 | 第39-44页 |
| 2.6 结论 | 第44-45页 |
| 第三章 铜离子印迹氯甲基化吸附树脂的制备及性能研究 | 第45-53页 |
| 3.1 引言 | 第45-46页 |
| 3.2 实验材料与仪器 | 第46-47页 |
| 3.2.1 实验材料 | 第46-47页 |
| 3.2.2 实验仪器设备 | 第47页 |
| 3.3 Cu~(2+)表面印迹氯甲基化吸附树脂的制备及表征 | 第47-48页 |
| 3.3.1 丙烯腈接枝氯甲基化吸附树脂(PAN-g-PS)的制备 | 第47页 |
| 3.3.2 硝基改性氯甲基化吸附树脂(NO_2-PAN-g-PS)的制备 | 第47-48页 |
| 3.3.3 硝基还原氯甲基化吸附树脂(NH_2-PAN-g-PS)的制备 | 第48页 |
| 3.3.4 铜离子印迹吸附树脂的合成 | 第48页 |
| 3.3.5 分析与表征 | 第48页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第48-51页 |
| 3.4.1 ATRP反应时间对丙烯腈接枝率的影响 | 第48-49页 |
| 3.4.2 Cu~(2+)-IIPs印迹氯甲基化树脂的形貌分析 | 第49-51页 |
| 3.5 Cu~(2+)-IIPs吸附性能研究 | 第51-52页 |
| 3.5.1 pH对吸附过程的影响 | 第51-52页 |
| 3.5.2 吸附动力学研究 | 第52页 |
| 3.6 结论 | 第52-53页 |
| 第四章 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |
| 在学期间主要科研成果 | 第67页 |
