激光直写三维微结构加工工艺的研究

摘要	第4-5页
Abstract	第5页
1 绪论	第8-12页
1.1 研究背景与意义	第8-9页
1.2 国内外研究现状	第9-10页
1.3 本论文的主要工作	第10-12页
2 激光直写系统的原理	第12-21页
2.1 光刻胶曝光原理及机制	第12-14页
2.2 双光子聚合原理与影响因素	第14-17页
2.3 高斯光束的性质	第17-20页
2.4 本章小结	第20-21页
3 激光直写系统加工工艺的研究	第21-51页
3.1 三维激光直写系统的结构	第21-28页
3.2 系统光路调节的工艺要求	第28-32页
3.3 SU8光刻胶的特性及使用工艺	第32-38页
3.4 微纳结构坐标的工艺要求	第38-44页
3.5 系统加工分辨率的研究	第44-47页
3.6 微纳结构加工常见问题分析讨论	第47-49页
3.7 本章小结	第49-51页
4 三维微纳结构的制备	第51-55页
4.1 六层木材堆结构	第51-52页
4.2 螺旋与小球结构	第52-54页
4.3 本章小结	第54-55页
5 总结与展望	第55-57页
5.1 全文总结	第55页
5.2 展望	第55-57页
致谢	第57-58页
参考文献	第58-61页