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常压等离子体沉积薄膜及不同频率等离子体的特性研究

摘要第8-10页
Abstract第10-11页
第一章 绪论第12-19页
    1.1 等离子体基本概述第12页
    1.2 产生冷等离子体的方法第12-15页
        1.2.1 电晕放电第13页
        1.2.2 辉光放电第13页
        1.2.3 弧光放电第13-14页
        1.2.4 介质阻挡放电第14页
        1.2.5 射频放电第14-15页
    1.3 等离子体化学气相沉积第15页
    1.4 大气压等离子体的研究背景第15-16页
    1.5 本文研究的主要内容第16-17页
    参考文献第17-19页
第二章 实验装置及检测第19-24页
    2.1 引言第19页
    2.2 实验装置第19-20页
    2.3 光谱仪系统和射频分析仪第20-22页
    2.4 薄膜的检测第22-23页
    参考文献第23-24页
第三章 通过双频 50kHz/33MHz大气压等离子体射流沉积有机硅薄膜第24-35页
    3.1 引言第24-25页
    3.2 薄膜沉积过程中的等离子体光谱第25-28页
    3.3 薄膜的特性表征第28-31页
    3.4 薄膜的功能特性第31-32页
    3.5 本章小结第32-33页
    参考文献第33-35页
第四章 不同频率下单频放电的特性比较第35-46页
    4.1 引言第35页
    4.2 等离子体射频放电装置的改进第35-36页
    4.3 等离子体的光谱特性第36-41页
    4.4 三个频率所测的电学性质第41-44页
    4.5 本章小结第44-45页
    参考文献第45-46页
第五章 总结与展望第46-47页
附录第47-48页
致谢第48页

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