| 摘要 | 第8-10页 |
| Abstract | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-19页 |
| 1.1 等离子体基本概述 | 第12页 |
| 1.2 产生冷等离子体的方法 | 第12-15页 |
| 1.2.1 电晕放电 | 第13页 |
| 1.2.2 辉光放电 | 第13页 |
| 1.2.3 弧光放电 | 第13-14页 |
| 1.2.4 介质阻挡放电 | 第14页 |
| 1.2.5 射频放电 | 第14-15页 |
| 1.3 等离子体化学气相沉积 | 第15页 |
| 1.4 大气压等离子体的研究背景 | 第15-16页 |
| 1.5 本文研究的主要内容 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-19页 |
| 第二章 实验装置及检测 | 第19-24页 |
| 2.1 引言 | 第19页 |
| 2.2 实验装置 | 第19-20页 |
| 2.3 光谱仪系统和射频分析仪 | 第20-22页 |
| 2.4 薄膜的检测 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-24页 |
| 第三章 通过双频 50kHz/33MHz大气压等离子体射流沉积有机硅薄膜 | 第24-35页 |
| 3.1 引言 | 第24-25页 |
| 3.2 薄膜沉积过程中的等离子体光谱 | 第25-28页 |
| 3.3 薄膜的特性表征 | 第28-31页 |
| 3.4 薄膜的功能特性 | 第31-32页 |
| 3.5 本章小结 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-35页 |
| 第四章 不同频率下单频放电的特性比较 | 第35-46页 |
| 4.1 引言 | 第35页 |
| 4.2 等离子体射频放电装置的改进 | 第35-36页 |
| 4.3 等离子体的光谱特性 | 第36-41页 |
| 4.4 三个频率所测的电学性质 | 第41-44页 |
| 4.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-46页 |
| 第五章 总结与展望 | 第46-47页 |
| 附录 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48页 |