摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5页 |
注释表 | 第11-12页 |
第一章 绪论 | 第12-25页 |
1.1 引言 | 第12页 |
1.2 多铁性材料 | 第12-18页 |
1.2.1 多铁性材料的分类 | 第13-14页 |
1.2.2 多铁性材的铁电性、铁磁性及磁电耦合 | 第14-17页 |
1.2.3 铁酸铋的性质及研究现状 | 第17-18页 |
1.3 柔性薄膜的制备方法 | 第18-21页 |
1.3.1 腐蚀剥离法 | 第19页 |
1.3.2 激光剥离法 | 第19-20页 |
1.3.3 物理沉积法 | 第20-21页 |
1.3.4 激光晶化法 | 第21页 |
1.4 柔性薄膜在器件中的应用 | 第21-23页 |
1.4.1 柔性薄膜传感器 | 第21-23页 |
1.4.2 柔性薄膜显示屏 | 第23页 |
1.5 本文的主要研究内容 | 第23-25页 |
第二章 薄膜的制备方法及表征 | 第25-32页 |
2.1 脉冲激光沉积法制备薄膜的工艺 | 第25-28页 |
2.1.1 薄膜的生长原理 | 第26页 |
2.1.2 薄膜的制备流程 | 第26-28页 |
2.1.3 影响薄膜生长的参数 | 第28页 |
2.2 薄膜的性能及表征 | 第28-32页 |
2.2.1 X射线衍射分析 | 第28-29页 |
2.2.2 扫描探针显微镜 | 第29-30页 |
2.2.3 电学及光学性能测试 | 第30-31页 |
2.2.4 铁电及铁磁性能测试 | 第31-32页 |
第三章 BiFeO_3柔性薄膜的生长及电学性能 | 第32-49页 |
3.1 引言 | 第32页 |
3.2 BiFeO_3固溶体靶材的制备 | 第32-34页 |
3.2.1 靶材的制备工艺 | 第32-33页 |
3.2.2 靶材的物相分析 | 第33-34页 |
3.3 BiFeO_3柔性薄膜的制备工艺 | 第34-36页 |
3.3.1 柔性薄膜的制备工艺 | 第34-35页 |
3.3.2 电极的制备工艺 | 第35-36页 |
3.4 缓冲层SrRuO_3对0.9BiFeO_3-0.1HoMnO_3柔性薄膜性能的影响 | 第36-40页 |
3.4.1 缓冲层对柔性薄膜物相的影响 | 第36-37页 |
3.4.2 缓冲层对柔性薄膜表面形貌及微观压电性的影响 | 第37-38页 |
3.4.3 缓冲层对柔性薄膜铁电性能的影响 | 第38-39页 |
3.4.4 缓冲层对柔性薄膜介电性能的影响 | 第39-40页 |
3.5 沉积温度对0.9BiFeO_3-0.1HoMnO_3柔性薄膜性能的影响 | 第40-43页 |
3.5.1 沉积温度对柔性薄膜结构的影响 | 第40-41页 |
3.5.2 沉积温度对柔性薄膜表面形貌及微观压电性能的影响 | 第41-42页 |
3.5.3 沉积温度对柔性薄膜铁电性的影响 | 第42-43页 |
3.6 BiFeO_3-HoMnO_3系列柔性薄膜的性能 | 第43-48页 |
3.6.1 BFO-HMO系列柔性薄膜的表面形貌 | 第43-45页 |
3.6.2 BFO-HMO系列柔性薄膜的漏电流 | 第45-46页 |
3.6.3 BFO-HMO系列柔性薄膜的铁磁性 | 第46-47页 |
3.6.4 BFO-HMO系列柔性薄膜的透射谱 | 第47-48页 |
3.7 本章小结 | 第48-49页 |
第四章 BiFeO_3-HoMnO_3柔性薄膜的温度稳定性和弯曲服役特性 | 第49-60页 |
4.1 引言 | 第49页 |
4.2 0.9 BiFeO_3-0.1HoMnO_3柔性薄膜的温度稳定性 | 第49-53页 |
4.2.1 0.9 BFO-0.1HMO柔性薄膜的电阻率随温度变化 | 第49-50页 |
4.2.2 0.9 BFO-0.1HMO柔性薄膜的温度驰豫性能 | 第50-51页 |
4.2.3 0.9 BFO-0.1HMO柔性薄膜的铁电温度稳定性 | 第51-52页 |
4.2.4 0.9 BFO-0.1HMO柔性薄膜的铁磁温度稳定性 | 第52-53页 |
4.3 0.9 BiFeO_3-0.1HoMnO_3柔性薄膜的弯曲服役特能 | 第53-58页 |
4.3.1 0.9 BFO-0.1HMO柔性薄膜弯曲状态的漏电流 | 第53-54页 |
4.3.2 0.9 BFO-0.1HMO柔性薄膜弯曲状态的铁电性 | 第54-55页 |
4.3.3 0.9 BFO-0.1HMO柔性薄膜弯曲状态的介电性 | 第55-56页 |
4.3.4 0.9 BFO-0.1HMO柔性薄膜的机械疲劳 | 第56-58页 |
4.4 本章小结 | 第58-60页 |
第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
5.1 本论文的主要结论 | 第60-61页 |
5.2 对未来工作的展望 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第68页 |