摘要 | 第6-8页 |
ABSTRACT | 第8-9页 |
第1章 绪论 | 第10-16页 |
1.1 自旋电子学简述 | 第10-11页 |
1.2 自旋极化光源 | 第11-12页 |
1.3 自旋垂直腔面发射激光器的构成 | 第12-14页 |
1.3.1 自旋垂直腔面发射激光器的量子限制增益介质 | 第12-14页 |
1.3.2 稀氮化物材料 | 第14页 |
1.4 本文的研究内容和意义 | 第14-16页 |
第2章 自旋垂直腔面发射激光器的基本理论 | 第16-28页 |
2.1 自旋垂直腔面发射激光器概述 | 第16页 |
2.2 自旋注入 | 第16-22页 |
2.2.1 电泵浦自旋垂直腔面发射激光器 | 第19-20页 |
2.2.2 光泵浦自旋垂直腔面发射激光器 | 第20-22页 |
2.3 自旋驰豫机制 | 第22-24页 |
2.4 自旋反转模型 | 第24-25页 |
2.5 光泵浦自旋垂直腔面发射激光器的SFM速率方程 | 第25-26页 |
2.6 自旋垂直腔面发射激光器的偏振特性和应用 | 第26-27页 |
2.7 本章小结 | 第27-28页 |
第3章 光泵浦下1300nm 自旋VCSEL的圆偏振转换及双稳特性研究 | 第28-38页 |
3.1 引言 | 第28-29页 |
3.2 理论模型 | 第29-30页 |
3.3 结果与讨论 | 第30-37页 |
3.3.1 连续扫描泵浦光的偏振椭圆率P_P引起激光器输出的PS及PB | 第31-33页 |
3.3.2 自旋激光器内部参数的变化对其输出的PS及PB的影响 | 第33-37页 |
3.4 本章小结 | 第37-38页 |
第4章 结束语 | 第38-39页 |
参考文献 | 第39-46页 |
致谢 | 第46-47页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第47页 |