中文摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 引言 | 第10-25页 |
1.1 AMOLED显示器件的发展及业界动态 | 第10-15页 |
1.2 AMOLED显示器件原理及器件结构介绍 | 第15-17页 |
1.3 有机电致发光器件性能的表征 | 第17-20页 |
1.4 顶发光OLED显示器件开发背景及项目开发任务 | 第20-23页 |
1.5 本人的主要工作介绍 | 第23-25页 |
第二章 顶发光器件光学设计的理论工具 | 第25-36页 |
2.1 光在介质中传播的电磁特性 | 第25-27页 |
2.2 光学薄膜系统的特征计算 | 第27-33页 |
2.2.1 单层介质薄膜的反射率 | 第28-30页 |
2.2.2 单层吸收薄膜的反射率 | 第30-31页 |
2.2.3 多层介质膜的反射率 | 第31-33页 |
2.3 彩色显示技术中的三基色原理 | 第33-35页 |
2.4 本章小结 | 第35-36页 |
第三章 顶发光器件光学设计 | 第36-57页 |
3.1 有机微腔发光器件的基本结构 | 第36-37页 |
3.2 顶发光器件微共振腔效应的基本原理 | 第37-38页 |
3.3 电致发光强度公式推导 | 第38-41页 |
3.4 顶发光器件光学设计及仿真 | 第41-55页 |
3.4.1 Simoled光学模拟软件基本介绍 | 第41-43页 |
3.4.2 阳极材料及其修饰层的选择 | 第43-44页 |
3.4.3 阴极材料及其修饰层的选择 | 第44页 |
3.4.4 有机材料的选择 | 第44-45页 |
3.4.5 透明阴极折射率匹配层的选择及影响 | 第45-51页 |
3.4.6 不同空穴传输层厚度对器件光学特性的影响 | 第51-55页 |
3.5 本章小结 | 第55-57页 |
第四章 顶发光显示器件的制备和测试分析 | 第57-67页 |
4.1 实验设备及工艺流程介绍 | 第57-59页 |
4.1.1 玻璃基板清洗 | 第58页 |
4.1.2 电极及有机材料的蒸镀 | 第58-59页 |
4.1.3 涂胶、封装及切割 | 第59页 |
4.2 器件的制备 | 第59-61页 |
4.2.1 不同厚度折射率匹配层顶发光器件制备 | 第59-60页 |
4.2.2 不同厚度NPB顶发光器件Vs底发光器件制备 | 第60-61页 |
4.3 器件的测试及分析 | 第61-66页 |
4.3.1 测试设备及测试方法 | 第61-62页 |
4.3.2 测试结果及分析 | 第62-66页 |
4.4 本章小结 | 第66-67页 |
第五章 总结及展望 | 第67-70页 |
参考文献 | 第70-74页 |
专有名词及缩写汇总 | 第74-75页 |
攻读学位器件申请专利情况 | 第75-77页 |
致谢 | 第77-78页 |