摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第1章 绪论 | 第8-25页 |
1.1 研究的目的和意义 | 第8-9页 |
1.1.1 研究背景 | 第8-9页 |
1.1.2 研究目的和意义 | 第9页 |
1.2 国内外研究现状 | 第9-22页 |
1.2.1 国外在该方向的研究现状 | 第9-19页 |
1.2.2 国内研究现状 | 第19-22页 |
1.3 国内外研究现状分析 | 第22-23页 |
1.4 主要研究内容 | 第23-25页 |
第2章 毛细管放电46.9nm激光空间分布的理论研究 | 第25-42页 |
2.1 引言 | 第25页 |
2.2 计算46.9nm激光空间分布特性的理论模型 | 第25-28页 |
2.3 毛细管放电46.9nm激光在等离子体柱中传播轨迹 | 第28-30页 |
2.4 电子密度分布对光强空间分布的影响 | 第30-36页 |
2.4.1 不同抛物线型电子密度分布对光强空间分布的影响 | 第30-34页 |
2.4.2 不同凹陷型电子密度分布对光强空间分布的影响 | 第34-36页 |
2.5 增益分布对光强空间分布的影响 | 第36-41页 |
2.5.1 抛物线型电子密度分布时增益分布对光强空间分布的影响 | 第36-38页 |
2.5.2 轴心凹陷型电子密度分布时增益分布对光强空间分布的影响 | 第38-41页 |
2.6 本章小结 | 第41-42页 |
第3章 毛细管放电装置及Ar气压对46.9nm激光输出特性的影响 | 第42-52页 |
3.1 引言 | 第42页 |
3.2 毛细管放电实验装置及原理 | 第42-46页 |
3.2.1 Marx发生器 | 第43-44页 |
3.2.2 主开关 | 第44页 |
3.2.3 Blumlein传输线 | 第44-45页 |
3.2.4 差分孔 | 第45页 |
3.2.5 X射线二极管 | 第45-46页 |
3.2.6 CCD | 第46页 |
3.3 Ar气压对激光强度的影响 | 第46-48页 |
3.4 Ar气压对激光空间分布的影响 | 第48-51页 |
3.5 本章小结 | 第51-52页 |
第4章 辅助气体He对毛细管放电46.9nm激光影响的实验研究 | 第52-66页 |
4.1 引言 | 第52页 |
4.2 辅助气体He对激光强度的影响 | 第52-56页 |
4.3 辅助气体He对激光空间分布的影响 | 第56-64页 |
4.4 本章小结 | 第64-66页 |
结论 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-72页 |
致谢 | 第72页 |