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辅助气体He对毛细管放电46.9nm激光输出特性的影响研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
第1章 绪论第8-25页
    1.1 研究的目的和意义第8-9页
        1.1.1 研究背景第8-9页
        1.1.2 研究目的和意义第9页
    1.2 国内外研究现状第9-22页
        1.2.1 国外在该方向的研究现状第9-19页
        1.2.2 国内研究现状第19-22页
    1.3 国内外研究现状分析第22-23页
    1.4 主要研究内容第23-25页
第2章 毛细管放电46.9nm激光空间分布的理论研究第25-42页
    2.1 引言第25页
    2.2 计算46.9nm激光空间分布特性的理论模型第25-28页
    2.3 毛细管放电46.9nm激光在等离子体柱中传播轨迹第28-30页
    2.4 电子密度分布对光强空间分布的影响第30-36页
        2.4.1 不同抛物线型电子密度分布对光强空间分布的影响第30-34页
        2.4.2 不同凹陷型电子密度分布对光强空间分布的影响第34-36页
    2.5 增益分布对光强空间分布的影响第36-41页
        2.5.1 抛物线型电子密度分布时增益分布对光强空间分布的影响第36-38页
        2.5.2 轴心凹陷型电子密度分布时增益分布对光强空间分布的影响第38-41页
    2.6 本章小结第41-42页
第3章 毛细管放电装置及Ar气压对46.9nm激光输出特性的影响第42-52页
    3.1 引言第42页
    3.2 毛细管放电实验装置及原理第42-46页
        3.2.1 Marx发生器第43-44页
        3.2.2 主开关第44页
        3.2.3 Blumlein传输线第44-45页
        3.2.4 差分孔第45页
        3.2.5 X射线二极管第45-46页
        3.2.6 CCD第46页
    3.3 Ar气压对激光强度的影响第46-48页
    3.4 Ar气压对激光空间分布的影响第48-51页
    3.5 本章小结第51-52页
第4章 辅助气体He对毛细管放电46.9nm激光影响的实验研究第52-66页
    4.1 引言第52页
    4.2 辅助气体He对激光强度的影响第52-56页
    4.3 辅助气体He对激光空间分布的影响第56-64页
    4.4 本章小结第64-66页
结论第66-67页
参考文献第67-72页
致谢第72页

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