| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 综述 | 第8-14页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·稀磁半导体的研究进展 | 第9-11页 |
| ·稀磁半导体的磁性来源 | 第11-12页 |
| ·In_2O_3 基稀磁半导体的研究概况 | 第12-13页 |
| ·本论文主要内容 | 第13-14页 |
| 2 样品的制备工艺及表征 | 第14-22页 |
| ·引言 | 第14页 |
| ·样品的制备 | 第14-18页 |
| ·固相反应法制备样品 | 第14-15页 |
| ·样品真空退火及原理 | 第15-16页 |
| ·脉冲激光沉积制备薄膜样品 | 第16-18页 |
| ·样品结构及性能测试 | 第18-22页 |
| ·样品结构的测量-X 射线衍射分析 | 第18页 |
| ·薄膜厚度的测定 | 第18-19页 |
| ·薄膜磁学性能的测定 | 第19-22页 |
| 3 (IN_(0.92)FE_(0.05)CU_(0.03))_2O_3 粉末的结构和磁性 | 第22-30页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·样品的制备 | 第22页 |
| ·烧结温度对(IN_(0.92)FE_(0.05)CU_(0.03))_2O_3 粉末结构和磁性的影响 | 第22-25页 |
| ·真空退火对(IN_(0.92)FE_(0.05)CU_(0.03))_2O_3 粉末结构和磁性的影响 | 第25-27页 |
| ·反复退火对(IN_(0.92)FE_(0.05)CU_(0.03))_2O_3 粉末结构和磁性的影响 | 第27-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 4 (IN_(0.92)FE_(0.05)CU_(0.03))_2O_3 薄膜的结构和磁性 | 第30-36页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·样品的制备 | 第30页 |
| ·基片温度对(IN_(0.92)FE_(0.05)CU_(0.03))_2O_3 薄膜的结构和磁性 | 第30-33页 |
| ·氧气分压对(IN_(0.92)FE_(0.05)CU_(0.03))_2O_3 薄膜的结构和磁性 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-36页 |
| 5 IN_(0.92)FE_(0.05)SN_(0.03))_2O_3 粉末的结构和磁性 | 第36-44页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·样品的制备 | 第36页 |
| ·烧结温度对IN_(0.92)FE_(0.05)SN_(0.03))_2O_3 粉末结构和磁性的影响 | 第36-38页 |
| ·真空退火对IN_(0.92)FE_(0.05)SN_(0.03))_2O_3 粉末结构和磁性的影响 | 第38-40页 |
| ·反复退火对粉末IN_(0.92)FE_(0.05)SN_(0.03))_2O_3 结构和磁性的影响 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 6 结论 | 第44-46页 |
| 致谢 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 附录 | 第52页 |
