LC9铝合金微弧氧化陶瓷膜及耐蚀研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 铝合金的腐蚀 | 第8-9页 |
| 1.2 铝合金的表面改性技术 | 第9-10页 |
| 1.2.1 表面喷涂 | 第9页 |
| 1.2.2 激光表面改性 | 第9-10页 |
| 1.2.3 化学处理方法 | 第10页 |
| 1.2.4 离子体注入方法 | 第10页 |
| 1.2.5 微等离子体氧化法 | 第10页 |
| 1.3 铝合金微弧氧化技术进展 | 第10-14页 |
| 1.3.1 铝合金微弧氧化过程 | 第10-11页 |
| 1.3.2 微弧氧化电源 | 第11-12页 |
| 1.3.3 微弧氧化电解液 | 第12页 |
| 1.3.4 铝合金微弧氧化技术研究现状及应用 | 第12-13页 |
| 1.3.5 铝合金微弧氧化陶瓷膜的腐蚀研究现状 | 第13页 |
| 1.3.6 本课题的研究目的 | 第13-14页 |
| 第2章 实验材料与实验方法 | 第14-18页 |
| 2.1 实验材料试剂及试件处理方法 | 第14页 |
| 2.1.1 实验材料与试剂 | 第14页 |
| 2.1.2 试件前处理方法 | 第14页 |
| 2.2 实验设备与制备方法 | 第14-15页 |
| 2.2.1 微弧氧化双相脉冲电源 | 第14-15页 |
| 2.2.2 微弧氧化装置与陶瓷膜制备方法 | 第15页 |
| 2.3 测试方法 | 第15-18页 |
| 2.3.1 陶瓷膜层接触腐蚀测试 | 第15-16页 |
| 2.3.2 陶瓷膜层耐腐蚀电化学测试 | 第16页 |
| 2.3.3 陶瓷膜相组成和结构分析 | 第16-18页 |
| 第3章 LC9铝合金陶瓷膜的表征 | 第18-29页 |
| 3.1 铝酸钠溶液中陶瓷膜的制备与表征 | 第18-23页 |
| 3.1.1 槽压-时间曲线 | 第18页 |
| 3.1.2 陶瓷膜的相组成 | 第18-20页 |
| 3.1.3 陶瓷膜表面形貌 | 第20-22页 |
| 3.1.4 陶瓷膜厚度 | 第22-23页 |
| 3.2 硅酸钠溶液中陶瓷膜的制备与表征 | 第23-28页 |
| 3.2.1 槽压-时间曲线 | 第23-24页 |
| 3.2.2 陶瓷膜相组成 | 第24-26页 |
| 3.2.3 陶瓷膜表面形貌 | 第26-27页 |
| 3.2.4 陶瓷膜厚度 | 第27-28页 |
| 3.3 本章小结 | 第28-29页 |
| 第4章 LC9铝合金的电偶腐蚀 | 第29-50页 |
| 4.1 铝酸钠溶液制备的膜层耐腐蚀性 | 第29-40页 |
| 4.1.1 电流密度 | 第29-32页 |
| 4.1.2 电解液浓度 | 第32-34页 |
| 4.1.3 反应时间 | 第34-37页 |
| 4.1.4 频率 | 第37-40页 |
| 4.2 硅酸钠溶液制备的膜层耐腐蚀性 | 第40-49页 |
| 4.2.1 电流密度 | 第40-43页 |
| 4.2.2 电解液浓度 | 第43-46页 |
| 4.2.3 反应时间 | 第46-49页 |
| 4.3 本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 LC9铝合金的电化学腐蚀 | 第50-58页 |
| 5.1 陶瓷膜腐蚀的塔菲尔曲线 | 第50-57页 |
| 5.1.1 铝酸钠电解液体系陶瓷膜 | 第50-53页 |
| 5.1.2 硅酸钠电解液体系陶瓷膜 | 第53-57页 |
| 5.2 本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 在学期间公开发表论文及著作情况 | 第63页 |
