| 中文摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-28页 |
| 1.1 研究背景 | 第10页 |
| 1.2 半导体光催化技术 | 第10-15页 |
| 1.2.1 半导体光催化反应原理 | 第11-12页 |
| 1.2.2 半导体光催化技术的应用 | 第12-14页 |
| 1.2.3 半导体光催化技术在应用中存在的问题 | 第14-15页 |
| 1.3 半导体光催化材料 | 第15-18页 |
| 1.3.1 宽带隙半导体 | 第15-16页 |
| 1.3.2 窄带隙半导体 | 第16-18页 |
| 1.4 高分子C_3N_4光催化剂的研究 | 第18-25页 |
| 1.4.1 C_3N_4的性质 | 第19-20页 |
| 1.4.2 C_3N_4在应用中存在的问题 | 第20页 |
| 1.4.3 提高C_3N_4光催化剂活性的策略 | 第20-24页 |
| 1.4.4 提高C_3N_4光催化剂可分离的策略 | 第24-25页 |
| 1.5 论文的立题依据及研究的内容 | 第25-28页 |
| 1.5.1 立题依据 | 第25-26页 |
| 1.5.2 研究内容与意义 | 第26-28页 |
| 第2章 实验材料及表征方法 | 第28-39页 |
| 2.1 实验试剂与仪器设备 | 第28-30页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第28-29页 |
| 2.1.2 仪器设备 | 第29-30页 |
| 2.2 材料表征方法 | 第30-33页 |
| 2.2.1 X-射线衍射 | 第30页 |
| 2.2.2 紫外-可见分光光度计 | 第30-31页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜 | 第31页 |
| 2.2.4 荧光光谱 | 第31页 |
| 2.2.5 红外吸收光谱 | 第31页 |
| 2.2.6 X-射线光电子能谱 | 第31-32页 |
| 2.2.7 稳态表面光电压谱 | 第32页 |
| 2.2.8 瞬态表面光电压谱 | 第32-33页 |
| 2.3 羟基自由基测试 | 第33-34页 |
| 2.4 光电化学性能测试 | 第34-35页 |
| 2.5 气体吸脱附(TPD)测试 | 第35页 |
| 2.6 电化学还原测试 | 第35-36页 |
| 2.7 交流阻抗测试 | 第36页 |
| 2.8 催化剂光催化活性评价 | 第36-39页 |
| 2.8.1 二氧化碳还原测试 | 第36页 |
| 2.8.2 苯酚降解 | 第36-37页 |
| 2.8.3 2 ,4-二氯苯酚降解 | 第37-39页 |
| 第3章 Al-O桥连C_3N_4-Fe_2O_3光催化剂的制备与机制 | 第39-59页 |
| 3.1 前言 | 第39页 |
| 3.2 C_3N_4-Fe_2O_3光催化剂的制备及活性 | 第39-45页 |
| 3.2.1 材料的制备 | 第39-40页 |
| 3.2.2 结构表征 | 第40-42页 |
| 3.2.3 光生电荷性质 | 第42-44页 |
| 3.2.4 光催化活性 | 第44-45页 |
| 3.3 Al-O桥连对C_3N_4-Fe_2O_3光催化剂活性的影响 | 第45-57页 |
| 3.3.1 材料的制备 | 第45-46页 |
| 3.3.2 结构表征 | 第46-49页 |
| 3.3.3 光生电荷性质 | 第49-51页 |
| 3.3.4 光催化活性 | 第51-52页 |
| 3.3.5 机制分析 | 第52-57页 |
| 3.4 本章小结 | 第57-59页 |
| 第4章 C_3N_4/碳纤维光催化剂的制备与机制 | 第59-74页 |
| 4.1 前言 | 第59页 |
| 4.2 C_3N_4/碳纤维光催化剂的制备及活性 | 第59-64页 |
| 4.2.1 材料的制备 | 第59-60页 |
| 4.2.2 结构表征 | 第60-61页 |
| 4.2.3 光生电荷性质 | 第61-62页 |
| 4.2.4 光催化活性 | 第62-64页 |
| 4.3 磷酸修饰对C_3N_4/碳纤维光催化剂活性的影响 | 第64-73页 |
| 4.3.1 材料的制备 | 第64页 |
| 4.3.2 结构表征 | 第64-66页 |
| 4.3.3 光生电荷性质 | 第66-67页 |
| 4.3.4 光催化活性 | 第67-69页 |
| 4.3.5 机制分析 | 第69-73页 |
| 4.4 本章小结 | 第73-74页 |
| 结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第88-90页 |
