真空灭弧系统电磁分析与动态弧阻特性研究
| 学位论文的主要创新点 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 课题研究背景和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 真空间隙击穿机理 | 第10-11页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第11-16页 |
| 1.3.1 真空灭弧室电场分析研究现状 | 第11-12页 |
| 1.3.2 真空灭弧室磁场分析研究现状 | 第12-13页 |
| 1.3.3 真空电弧研究发展现状 | 第13-16页 |
| 1.4 本文主要研究工作 | 第16-19页 |
| 第二章 真空灭弧室内部电场分析 | 第19-27页 |
| 2.1 真空灭弧室电场分析模型 | 第19-21页 |
| 2.1.1 真空灭弧室的基本结构 | 第19-20页 |
| 2.1.2 电场数值计算数学模型及边界条件 | 第20-21页 |
| 2.2 真空灭弧室内部电场分布 | 第21-26页 |
| 2.2.1 真空灭弧室内部电位分布 | 第21-22页 |
| 2.2.2 真空灭弧室内部电场分布 | 第22-23页 |
| 2.2.3 触头沿面电场分布 | 第23-24页 |
| 2.2.4 悬浮屏蔽电极内表面电场分布 | 第24-25页 |
| 2.2.5 不同行程下最大电场的变化 | 第25-26页 |
| 2.3 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 真空灭弧室瞬态磁场分析 | 第27-41页 |
| 3.1 真空灭弧室瞬态磁场分析模型 | 第27-29页 |
| 3.1.1 杯状纵磁触头结构模型 | 第27-28页 |
| 3.1.2 真空灭弧室磁场数学模型及边界条件 | 第28-29页 |
| 3.2 真空灭弧室触头磁场计算结果分析 | 第29-33页 |
| 3.2.1 电流峰值时触头片表面纵向磁场分布 | 第29-30页 |
| 3.2.2 电流过零时触头片表面磁场分布 | 第30-31页 |
| 3.2.3 断口中心平面纵向磁场分布 | 第31-32页 |
| 3.2.4 纵向磁场滞后时间 | 第32-33页 |
| 3.3 不同铁心结构纵向磁场分析 | 第33-39页 |
| 3.3.1 五种铁心结构纵向磁场分析 | 第33-36页 |
| 3.3.2 开槽深度与角度对纵向磁场影响 | 第36-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 交流真空电弧动态弧阻特性研究 | 第41-65页 |
| 4.1 实验方案设计 | 第41-45页 |
| 4.1.1 实验内容 | 第41-42页 |
| 4.1.2 实验装置 | 第42-43页 |
| 4.1.3 实验线路及实验步骤 | 第43-45页 |
| 4.2 电弧形态变化分析 | 第45-47页 |
| 4.3 实验结果分析 | 第47-59页 |
| 4.3.1 T30开断方式下动态弧阻分析 | 第47-52页 |
| 4.3.2 T60开断方式下动态弧阻分析 | 第52-56页 |
| 4.3.3 动态弧阻数学表达式 | 第56-58页 |
| 4.3.4 真空电弧电导率曲线 | 第58-59页 |
| 4.4 电弧能量的计算 | 第59-63页 |
| 4.4.1 T30开断方式下电弧能量分析 | 第60-61页 |
| 4.4.2 T60开断方式下电弧能量分析 | 第61-63页 |
| 4.5 本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 结论与展望 | 第65-67页 |
| 5.1 结论 | 第65-66页 |
| 5.2 展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 发表论文和参加科研情况 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
