| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-29页 |
| §1.1 引言 | 第10-11页 |
| §1.2 氧化锌纳米线、棒的生长技术 | 第11-17页 |
| §1.2.1 气相沉积法 | 第12-13页 |
| §1.2.2 电化学沉积法 | 第13-14页 |
| §1.2.3 水热法 | 第14-16页 |
| §1.2.4 其它方法 | 第16-17页 |
| §1.3 图案化 ZnO 纳米棒阵列的研究现状 | 第17-22页 |
| §1.3.1 微/纳米球模板法（Nanosphere Lithography） | 第17-18页 |
| §1.3.2 压印法（Nanoimprint Lithography） | 第18-20页 |
| §1.3.3 光刻技术（Photolithography） | 第20-21页 |
| §1.3.4 电子束刻蚀技术（E-beam lithography） | 第21-22页 |
| §1.4 目前存在的主要问题及主要研究内容 | 第22-25页 |
| §1.4.1 目前存在的主要问题 | 第22-23页 |
| §1.4.2 本文主要研究内容 | 第23-25页 |
| 参考文献 | 第25-29页 |
| 第二章 结合纳米压印与低温水热技术构筑多阶层类荷叶ZnO阵列及其超疏水性能研究 | 第29-49页 |
| §2.1 引言 | 第29-30页 |
| §2.2 实验部分 | 第30-36页 |
| §2.2.1 聚二甲基硅氧烷的制备和新鲜荷叶表面结构的复制 | 第31-33页 |
| §2.2.2 氧化锌溶胶阻挡层的选取与制备 | 第33页 |
| §2.2.3 热压印及退火过程 | 第33-34页 |
| §2.2.4 低温水热生长下一级 ZnO 纳米棒阵列 | 第34页 |
| §2.2.5 全氟硅烷的选取与组装 | 第34-35页 |
| §2.2.6 样品的测试表征 | 第35-36页 |
| §2.3 结果与讨论 | 第36-43页 |
| §2.3.1 温度对复制新鲜荷叶结构的影响 | 第36-37页 |
| §2.3.2 ZnO 凝胶薄膜的退火及水热生长 | 第37-40页 |
| §2.3.3 纳米二级结构对 ZnO 荷叶仿生界面疏水性的影响 | 第40-43页 |
| §2.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 第三章 结合电子束刻蚀及低温水热反应技术制备图案化 ZnO 纳米棒阵列 | 第49-67页 |
| §3.1 引言 | 第49-50页 |
| §3.2 实验部分 | 第50-53页 |
| §3.2.1 离子束溅射沉积 ZnO 薄膜种子层 | 第50-51页 |
| §3.2.2 旋涂电子束刻蚀胶 | 第51页 |
| §3.2.3 通过电子束刻蚀技术构筑电子束刻蚀胶图案化结构 | 第51-52页 |
| §3.2.4 低温水热生长过程 | 第52页 |
| §3.2.5 样品的测试表征 | 第52-53页 |
| §3.3 结果与讨论 | 第53-62页 |
| §3.3.1 种子层对水热生长 ZnO 纳米棒阵列形貌的影响 | 第53-55页 |
| §3.3.2 水热过程对有序 ZnO 纳米棒阵列的形貌调控作用 | 第55-58页 |
| §3.3.3 PMMA 结构尺寸对有序 ZnO 纳米棒阵列的形貌调控作用 | 第58-61页 |
| §3.3.4 EBL 和低温水热方法相结合制备多种多样的 ZnO 阵列结构 | 第61-62页 |
| §3.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
