摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第13-41页 |
§1.1 研究背景与意义 | 第13-14页 |
§1.2 研究现状 | 第14-22页 |
§1.2.1 白光LED的研究现状 | 第14-15页 |
§1.2.2 荧光粉的研究现状 | 第15-22页 |
§1.3 Y_3Al_5O_(12):Ce~(3+)荧光粉 | 第22-27页 |
§1.3.1 钇铝石榴石(YAG)的基本物理性质 | 第22-23页 |
§1.3.2 铈(Ce)元素的基本物理性质 | 第23-24页 |
§1.3.3 YAG:Ce~(3+)荧光粉的各项属性 | 第24-27页 |
§1.4 材料表面的刻蚀方法 | 第27-30页 |
§1.4.1 等离子体干刻法 | 第27-28页 |
§1.4.2 化学湿刻法 | 第28-30页 |
§1.5 远程荧光粉 | 第30-31页 |
§1.6 本论文的研究内容和组织结构 | 第31-32页 |
§1.6.1 主要研究内容 | 第31-32页 |
§1.6.2 组织结构 | 第32页 |
参考文献 | 第32-41页 |
第二章 实验方法 | 第41-70页 |
§2.1 YAG:Ce~(3+)荧光粉表面修饰的实验方法 | 第41-45页 |
§2.2 远程荧光粉片的制备 | 第45-47页 |
§2.2.1 远程荧光粉片的制备方法 | 第45-46页 |
§2.2.2 旋涂仪的介绍 | 第46-47页 |
§2.3 样品表征与分析原理 | 第47-59页 |
§2.3.1 光谱测量系统及原理 | 第47-49页 |
§2.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第49-53页 |
§2.3.3 X射线衍射分析(XRD) | 第53-55页 |
§2.3.4 正电子湮没技术~[8,9](PAT) | 第55-57页 |
§2.3.5 金相显微镜 | 第57-59页 |
§2.4 等离子体刻蚀法修饰YAG荧光粉的探索性实验 | 第59-67页 |
§2.4.1 等离子体的产生方法 | 第59-63页 |
§2.4.2 实验结果 | 第63-65页 |
§2.4.3 分析与结论 | 第65-67页 |
参考文献 | 第67-70页 |
第三章 氢氟酸修饰YAG:Ce~(3+)荧光粉的表面形貌研究 | 第70-85页 |
§3.1 结果与分析 | 第70-80页 |
§3.1.1 SEM的结果与分析 | 第70-73页 |
§3.1.2 XRD的结果与分析 | 第73-74页 |
§3.1.3 金相显微镜的结果与分析 | 第74-75页 |
§3.1.4 PL的结果与分析 | 第75-77页 |
§3.1.5 热稳定性的实验结果与分析 | 第77-80页 |
§3.2 结论 | 第80-83页 |
参考文献 | 第83-85页 |
第四章 氟化氨与醋酸混合溶液修饰YAG:Ce~(3+)荧光粉的表面形貌 | 第85-105页 |
§4.1 结果与分析 | 第86-100页 |
§4.1.1 SEM的结果与分析 | 第86-91页 |
§4.1.2 XRD的结果与分析 | 第91-92页 |
§4.1.3 PAS的结果与分析 | 第92-94页 |
§4.1.4 金相显微镜的结果与分析 | 第94-95页 |
§4.1.5 PL的结果与分析 | 第95-97页 |
§4.1.6 热稳定性的实验结果与分析 | 第97-100页 |
§4.2 结论 | 第100-102页 |
参考文献 | 第102-105页 |
第五章 远程荧光粉(remote phosphor) | 第105-124页 |
§5.1 荧光粉层厚度与荧光粉浓度对rp-LED光参数的影响 | 第105-109页 |
§5.1.1 远程荧光粉的制备 | 第105-107页 |
§5.1.2 荧光粉层厚度与荧光粉浓度对rp-LED光参数的影响 | 第107-109页 |
§5.2 荧光粉形貌对rp-LED光参数的影响 | 第109-121页 |
§5.2.1 荧光粉片的光学显微形貌 | 第109-111页 |
§5.2.2 光色参数测量结果与分析 | 第111-121页 |
§5.3 结论 | 第121-122页 |
参考文献 | 第122-124页 |
第六章 总结与展望 | 第124-128页 |
§6.1 总结 | 第124-126页 |
§6.2 展望 | 第126-128页 |
致谢 | 第128-130页 |
博士期间发表的论文与专利 | 第130-132页 |