| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 1 文献综述 | 第9-24页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 钨的基本性质 | 第10-12页 |
| 1.2.1 钨的物理性质 | 第10-11页 |
| 1.2.2 钨的化学性质 | 第11-12页 |
| 1.3 高纯钨的制备方法 | 第12-21页 |
| 1.3.1 化学粗提纯法 | 第12-16页 |
| 1.3.2 物理精提纯法 | 第16-18页 |
| 1.3.3 其他方法 | 第18-21页 |
| 1.4 电子束熔炼法制备高纯钨 | 第21-22页 |
| 1.5 高纯钨的应用 | 第22页 |
| 1.6 本文的研究目的、内容及其意义 | 第22-24页 |
| 2 实验方案 | 第24-29页 |
| 2.1 实验原料 | 第24页 |
| 2.2 实验方法 | 第24-26页 |
| 2.3 实验设备 | 第26-27页 |
| 2.3.1 超声波清洗仪 | 第26页 |
| 2.3.2 电子束熔炼炉 | 第26-27页 |
| 2.4 分析检测方法 | 第27-29页 |
| 2.4.1 光学显微分析 | 第27页 |
| 2.4.2 微观形貌和能谱分析 | 第27页 |
| 2.4.3 显微硬度分析 | 第27页 |
| 2.4.4 ICP-MS杂质纯度分析 | 第27-28页 |
| 2.4.5 碳硫分析 | 第28页 |
| 2.4.6 氧氮氢分析 | 第28-29页 |
| 3 电子束熔炼法提纯钨过程中温度场模拟及工艺优化 | 第29-43页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 熔炼功率的计算分析 | 第29-33页 |
| 3.3 温度场模拟及工艺优化 | 第33-42页 |
| 3.3.1 建立模型 | 第33-35页 |
| 3.3.2 模拟结果及其分析 | 第35-40页 |
| 3.3.3 实验验证 | 第40-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 4 优化工艺条件下熔炼钨的组织结构与成分分析 | 第43-55页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 熔炼钨的组织分析 | 第43-49页 |
| 4.2.1 原料棒端面形貌分析 | 第43-45页 |
| 4.2.2 钨锭形貌及金相组织分析 | 第45-49页 |
| 4.3 钨锭间隙杂质成分分析 | 第49-50页 |
| 4.4 钨锭非间隙杂质成分分析 | 第50-53页 |
| 4.4.1 钨锭轴向上的非间隙杂质成分分析 | 第50-51页 |
| 4.4.2 钨锭径向上的非间隙杂质成分分析 | 第51-53页 |
| 4.5 本章小结 | 第53-55页 |
| 5 电子束熔炼法提纯钨过程中杂质去除机理研究 | 第55-64页 |
| 5.1 引言 | 第55页 |
| 5.2 电子束熔炼法提纯钨过程中杂质去除的热力学分析 | 第55-57页 |
| 5.3 电子束熔炼法提纯钨过程中杂质去除的动力学分析 | 第57-63页 |
| 5.4 本章小结 | 第63-64页 |
| 6 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |