| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 课题研究的背景 | 第10-12页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第12-15页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第12-14页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第14-15页 |
| 1.3 课题研究的意义 | 第15页 |
| 1.4 本论文的主要内容 | 第15-16页 |
| 1.5 本章小结 | 第16-17页 |
| 第2章 混合磁流体曲面研磨加工机理及研磨均匀量的控制 | 第17-29页 |
| 2.1 混合磁流体研磨工作原理 | 第17-18页 |
| 2.2 混合磁流体研磨液 | 第18页 |
| 2.3 混合磁流体曲面研磨材料去除规律的研究 | 第18-23页 |
| 2.3.1 磁流体曲面研磨微观去除机理 | 第19-20页 |
| 2.3.2 磁流体曲面研磨宏观去除机理 | 第20-22页 |
| 2.3.3 曲面磁流体研磨去除量均匀性的影响因素 | 第22-23页 |
| 2.4 曲面研磨常规“之”字形研磨轨迹产生的问题及原因 | 第23-27页 |
| 2.4.1 常规曲面研磨运动轨迹产生的问题 | 第23-24页 |
| 2.4.2“之”字形研磨轨迹问题产生的原因 | 第24-26页 |
| 2.4.3 研磨运动轨迹的规划 | 第26-27页 |
| 2.5 混合磁流体曲面研磨特点 | 第27-28页 |
| 2.6 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 混合磁流体研磨头磁场分析及测头运动控制 | 第29-52页 |
| 3.1 混合磁流体研磨装置总体结构 | 第29-30页 |
| 3.2 研磨头的设计 | 第30-32页 |
| 3.2.1 磁极形状的影响 | 第30-31页 |
| 3.2.2 研磨头的结构 | 第31-32页 |
| 3.3 基于ANSYS虚拟样机分析 | 第32-39页 |
| 3.3.1 开槽磁极对磁场的影响 | 第32-34页 |
| 3.3.2 开槽形状对磁场的影响 | 第34-36页 |
| 3.3.3 槽形对磁场强度分布的影响规律 | 第36-39页 |
| 3.4 数控系统功能分析 | 第39-40页 |
| 3.5 控制系统整体方案 | 第40-43页 |
| 3.5.1 系统的硬件总体构成 | 第41-42页 |
| 3.5.2 系统的软件组成 | 第42-43页 |
| 3.6 曲面数字化测量轨迹控制 | 第43-51页 |
| 3.6.1 测量方式的选择 | 第44-46页 |
| 3.6.2 测头的进给方向的运动轨迹 | 第46-47页 |
| 3.6.3 测头的运动方式 | 第47页 |
| 3.6.4 测头的自动跟踪算法模型 | 第47-49页 |
| 3.6.5 自动选择跟踪方式 | 第49-50页 |
| 3.6.6 跨距方向进行行间距规划 | 第50-51页 |
| 3.7 小结 | 第51-52页 |
| 第4章 曲面混合磁流体研磨数控加工轨迹的实现 | 第52-74页 |
| 4.1 STL文件的读入与可视化平台建立 | 第52-56页 |
| 4.1.1 STL文件存储格式 | 第53-54页 |
| 4.1.2 STL文件格式的规则和分析 | 第54-56页 |
| 4.2 OpenGL环境下STL模型显示 | 第56-59页 |
| 4.2.1 本文所用OpenGL部分函数 | 第56-57页 |
| 4.2.2 STL模型的读取与显示 | 第57-59页 |
| 4.3 基于STL模型研磨运动轨迹的规划和生成 | 第59-67页 |
| 4.3.1 行距自适应的磁极轨迹规划 | 第59-60页 |
| 4.3.2 基于STL模型的算法流程 | 第60-63页 |
| 4.3.3 三角形面片与截片面交点求解 | 第63-65页 |
| 4.3.4 有向截面交点生成 | 第65-67页 |
| 4.3.5 研磨头轨迹的可视化 | 第67页 |
| 4.4 研磨轨迹后置处理以及G代码的生成 | 第67-71页 |
| 4.4.1 按设定步长后置处理 | 第67-69页 |
| 4.4.2 混合磁流体加工路径的生成 | 第69-71页 |
| 4.5 以自由曲面生成数控加工G代码 | 第71-73页 |
| 4.6 本章小结 | 第73-74页 |
| 第5章 总结与展望 | 第74-76页 |
| 5.1 全文总结 | 第74-75页 |
| 5.2 展望 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-80页 |
| 攻读硕士学位论文期间发表的学术论文与成果 | 第80页 |