| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 课题背景及介绍 | 第8-16页 |
| 1.2 本论文的主要工作与创新 | 第16-17页 |
| 2 非线性光学理论基础与数值解法 | 第17-33页 |
| 2.1 非线性光学概述 | 第17-18页 |
| 2.2 二阶非线性效应 | 第18-20页 |
| 2.3 二阶非线性理论模型 | 第20-32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 3 多过程频率变换方案设计与模拟分析 | 第33-53页 |
| 3.1 深紫外光梳中的非线性频率变换 | 第33-36页 |
| 3.2 非线性晶体的选取 | 第36-38页 |
| 3.3 程序模拟结果及分析 | 第38-52页 |
| 3.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 4 多过程非周期极化晶体设计分析 | 第53-70页 |
| 4.1 畴反转光学超晶格的发展 | 第53-55页 |
| 4.2 非周期光学超晶格(APOS)的设计 | 第55-59页 |
| 4.3 基于AOS的耦合三倍频产生 | 第59-64页 |
| 4.4 从 1040nm到 468nm的APOS设计分析 | 第64-68页 |
| 4.5 本章小结 | 第68-70页 |
| 5 总结与展望 | 第70-72页 |
| 5.1 本文工作总结 | 第70-71页 |
| 5.2 课题展望 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |