| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 热释电探测器 | 第10-15页 |
| 1.1.1 热释电效应 | 第10页 |
| 1.1.2 热释电探测器工作原理 | 第10-12页 |
| 1.1.3 热释电材料参数 | 第12-15页 |
| 1.2 热释电材料的发展与应用 | 第15-16页 |
| 1.3 PVDF薄膜的发展 | 第16-19页 |
| 1.3.1 PVDF的结构 | 第16-17页 |
| 1.3.2 PVDF的物理特性 | 第17-18页 |
| 1.3.3 PVDF薄膜的发展现状 | 第18-19页 |
| 1.4 选题意义与主要工作 | 第19-21页 |
| 第二章 PVDF薄膜的制备及其性能研究 | 第21-32页 |
| 2.1 PVDF薄膜和PVDF/GO复合薄膜的制备 | 第21-23页 |
| 2.1.1 实验仪器及材料 | 第21-22页 |
| 2.1.2 旋涂制备工艺 | 第22-23页 |
| 2.2 PVDF薄膜和PVDF/GO复合薄膜性能研究 | 第23-31页 |
| 2.2.1 GO的掺杂浓度对薄膜性能的影响 | 第23-25页 |
| 2.2.2 退火温度对薄膜性能的影响 | 第25-28页 |
| 2.2.3 溶剂对薄膜性能的影响 | 第28-30页 |
| 2.2.4 退火氛围对薄膜性能的影响 | 第30-31页 |
| 2.3 本章总结 | 第31-32页 |
| 第三章 PVDF和PVDF/GO的等温结晶动力学研究 | 第32-38页 |
| 3.1 PVDF和PVDF/GO的等温结晶过程 | 第32-33页 |
| 3.2 不同等温结晶温度下相对结晶度与时间的关系 | 第33-34页 |
| 3.3 PVDF和PVDF/GO的Avrami方程 | 第34-36页 |
| 3.4 本章总结 | 第36-38页 |
| 第四章 PVDF薄膜和PVDF/GO复合薄膜的电学性质研究 | 第38-56页 |
| 4.1 PVDF薄膜和PVDF/GO复合薄膜的漏电性质 | 第38-40页 |
| 4.1.1 漏电原理 | 第38-39页 |
| 4.1.2 实验结果 | 第39-40页 |
| 4.2 PVDF薄膜和PVDF/GO复合薄膜的介电性质 | 第40-43页 |
| 4.2.1 电介质极化 | 第40-41页 |
| 4.2.2 相对介电常数 | 第41页 |
| 4.2.3 介电损耗 | 第41-42页 |
| 4.2.4 实验结果 | 第42-43页 |
| 4.3 PVDF薄膜和PVDF/GO复合薄膜的极化处理 | 第43-49页 |
| 4.3.1 热极化原理 | 第43-45页 |
| 4.3.2 实验结果 | 第45-49页 |
| 4.4 PVDF薄膜和PVDF/GO复合薄膜的电滞回线 | 第49-51页 |
| 4.4.1 电滞回线 | 第49-50页 |
| 4.4.2 实验结果 | 第50-51页 |
| 4.5 PVDF薄膜和PVDF/GO复合薄膜的热释电性质 | 第51-53页 |
| 4.5.1 测试原理 | 第51-52页 |
| 4.5.2 实验结果 | 第52-53页 |
| 4.6 PVDF薄膜热释电探测单元器件研究 | 第53-55页 |
| 4.6.1 测试原理 | 第53-54页 |
| 4.6.2 实验结果 | 第54-55页 |
| 4.7 本章总结 | 第55-56页 |
| 第五章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 5.1 全文总结 | 第56-57页 |
| 5.2 展望 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第63-64页 |
