| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第14-37页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第14-15页 |
| 1.2 ZnO的基本性质及能带结构 | 第15-20页 |
| 1.2.1 ZnO的晶体结构及基本性质 | 第15-16页 |
| 1.2.2 ZnO的能带结构 | 第16-18页 |
| 1.2.3 ZnO的晶格动力学性质 | 第18页 |
| 1.2.4 ZnO的光学跃迁过程 | 第18-20页 |
| 1.3 Zn O晶格中本征点缺陷及H杂质 | 第20-24页 |
| 1.3.1 氧空位 | 第21-22页 |
| 1.3.2 锌填隙 | 第22页 |
| 1.3.3 锌空位 | 第22-23页 |
| 1.3.4 氧填隙 | 第23页 |
| 1.3.5 反位缺陷 | 第23页 |
| 1.3.6 H杂质缺陷 | 第23-24页 |
| 1.4 H~+注入及热处理对ZnO光学性能的影响 | 第24-29页 |
| 1.4.1 H~+注入对ZnO光学性能影响 | 第24-26页 |
| 1.4.2 热处理对ZnO光学性能影响 | 第26-29页 |
| 1.5 Zn O深能级发光起源研究 | 第29-32页 |
| 1.6 Zn O受主缺陷掺杂研究 | 第32-35页 |
| 1.6.1 Ⅴ族元素掺杂ZnO | 第32-33页 |
| 1.6.2 Ⅰ族元素掺杂ZnO | 第33-34页 |
| 1.6.3 共掺杂p型ZnO技术 | 第34-35页 |
| 1.7 本文主要研究内容 | 第35-37页 |
| 1.7.1 ZnO缺陷工程存在的问题 | 第35页 |
| 1.7.2 研究内容 | 第35-37页 |
| 第2章 试验材料、设备及分析方法 | 第37-44页 |
| 2.1 试验材料 | 第37-38页 |
| 2.2 质子及电子注入试验 | 第38-39页 |
| 2.3 分析测试方法 | 第39-44页 |
| 2.3.1 光吸收测试 | 第39-40页 |
| 2.3.2 拉曼光谱分析 | 第40页 |
| 2.3.3 变温光致荧光光谱分析 | 第40-41页 |
| 2.3.4 正电子湮没谱分析 | 第41-42页 |
| 2.3.5 电子顺磁共振波谱分析 | 第42页 |
| 2.3.6 低温傅利叶红外变换光谱分析 | 第42-43页 |
| 2.3.7 X射线光电子能谱分析 | 第43-44页 |
| 第3章 缺陷对ZnO光吸收和发光性能的影响 | 第44-83页 |
| 3.1 引言 | 第44页 |
| 3.2 热处理对ZnO光学性能的影响 | 第44-50页 |
| 3.3 Al掺杂对ZnO光学性能的影响 | 第50-55页 |
| 3.4 H~+注入对ZnO光学性能的影响 | 第55-60页 |
| 3.5 Al-H共掺对ZnO光学性能的影响 | 第60-65页 |
| 3.6 H~+注入对ZnO单晶晶须光学性能的影响 | 第65-71页 |
| 3.7 ZnO绿光荧光发光起源研究 | 第71-77页 |
| 3.8 热处理和离子注入对ZnO蓝紫光吸收的差异 | 第77-82页 |
| 3.9 本章小结 | 第82-83页 |
| 第4章 ZnO缺陷的低温FT-IR光谱研究 | 第83-95页 |
| 4.1 引言 | 第83页 |
| 4.2 FT-IR光谱探测二元化合物中杂质、缺陷振动模的原理 | 第83-85页 |
| 4.3 ZnO的六个红外吸收峰 | 第85-87页 |
| 4.4 表界面态对ZnO红外吸收峰的影响 | 第87-89页 |
| 4.5 热处理对红外吸收峰的影响 | 第89-92页 |
| 4.6 同位素对红外吸收峰的影响 | 第92-94页 |
| 4.7 本章小结 | 第94-95页 |
| 第5章 ZnO材料的受主缺陷掺杂研究 | 第95-111页 |
| 5.1 引言 | 第95页 |
| 5.2 H_2O_2处理对ZnO受主缺陷的影响 | 第95-99页 |
| 5.3 高温氧气退火处理对ZnO受主缺陷的影响 | 第99-102页 |
| 5.4 Li掺杂氧化锌的受主缺陷研究 | 第102-110页 |
| 5.5 本章小结 | 第110-111页 |
| 结论 | 第111-112页 |
| 创新点 | 第112-113页 |
| 展望 | 第113-114页 |
| 参考文献 | 第114-128页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第128-131页 |
| 致谢 | 第131-132页 |
| 个人简历 | 第132页 |