| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 前言 | 第11-15页 |
| 1.1.1 纳米材料 | 第11-12页 |
| 1.1.2 纳米氧化硅 | 第12-15页 |
| 1.2 氧化硅纳米球 | 第15-25页 |
| 1.2.1 氧化硅纳米球的制备方法 | 第15-24页 |
| 1.2.2 纳米氧化硅的发光性能 | 第24-25页 |
| 1.3 课题研究的意义、目的及研究内容 | 第25-27页 |
| 第2章 实验方法 | 第27-33页 |
| 2.1 实验所用仪器设备 | 第27页 |
| 2.2 实验原料 | 第27页 |
| 2.3 氧化硅纳米球的制备原理 | 第27-28页 |
| 2.4 氧化硅纳米球的制备过程 | 第28页 |
| 2.5 氧化硅空心球的制备原理 | 第28-29页 |
| 2.6 氧化硅空心球的制备过程 | 第29页 |
| 2.7 表征设备 | 第29-33页 |
| 第3章 氨基酸辅助制备氧化硅纳米球及光学性能研究 | 第33-55页 |
| 3.1 前言 | 第33-34页 |
| 3.2 实验设计 | 第34-35页 |
| 3.3 产物粒径分析 | 第35-40页 |
| 3.3.1 氧化硅纳米球粒径分析处理 | 第35-38页 |
| 3.3.2 TEOS 对氧化硅纳米球粒径的影响 | 第38页 |
| 3.3.3 L-赖氨酸对氧化硅纳米球粒径的影响 | 第38页 |
| 3.3.4 温度 T 对氧化硅纳米球粒径的影响 | 第38-39页 |
| 3.3.5 确定最佳工艺条件 | 第39页 |
| 3.3.6 预测最优化粒径及其制备 | 第39-40页 |
| 3.4 产物形貌、物象和结构分析 | 第40-47页 |
| 3.4.1 SEM 分析 | 第40页 |
| 3.4.2 X 射线衍射物相分析 | 第40-41页 |
| 3.4.3 透射电镜分析 | 第41-42页 |
| 3.4.4 热重分析 | 第42-43页 |
| 3.4.5 傅立叶变换红外光谱分析 | 第43-44页 |
| 3.4.6 N_2吸附脱附等温曲线和 BET 比表面积分析 | 第44页 |
| 3.4.7 光致发光分析 | 第44-47页 |
| 3.5 温度对氧化硅纳米球粒径和光学性能的影响 | 第47-53页 |
| 3.5.1 动态光散射分析 | 第47-48页 |
| 3.5.2 小角 X 射线散射分析 | 第48-52页 |
| 3.5.3 紫外－可见光吸收光谱分析 | 第52-53页 |
| 3.6 形成机理的探究 | 第53-54页 |
| 3.7 本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章 氧化硅空心球的形貌控制及光学性能研究 | 第55-66页 |
| 4.1 前言 | 第55页 |
| 4.2 实验结果与分析 | 第55-57页 |
| 4.2.1 氧化硅空心球的形貌分析 | 第55-56页 |
| 4.2.2 氧化硅空心球的粒径分析 | 第56页 |
| 4.2.3 氧化硅空心球的 EDS 分析 | 第56-57页 |
| 4.2.4 氧化硅空心球的 XRD 物相分析 | 第57页 |
| 4.3 搅拌速度对氧化硅空心球粒径均匀性的影响 | 第57-59页 |
| 4.4 软模板 PAA 的浓度对氧化硅空心球形貌的影响 | 第59-61页 |
| 4.4.1 氧化硅空心球的傅立叶变换红外光谱分析 | 第60-61页 |
| 4.5 TEOS 的量对氧化硅空心球壁厚的影响 | 第61-62页 |
| 4.6 紫外－可见光吸收光谱分析 | 第62-63页 |
| 4.6.1 搅拌速度对氧化硅空心球吸收光谱的影响 | 第62-63页 |
| 4.6.2 软模板 PAA 的浓度对氧化硅空心球吸收光谱的影响 | 第63页 |
| 4.7 光致发光分析 | 第63-65页 |
| 4.7.1 搅拌速度对氧化硅空心球发光性能的影响 | 第63-64页 |
| 4.7.2 软模板 PAA 的浓度对氧化硅空心球发光性能的影响 | 第64-65页 |
| 4.8 本章小结 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 附录A 攻读硕士学位期间所发表的学术论文目录 | 第75页 |
