| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1. 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 声子晶体 | 第10-12页 |
| 1.2 多孔硅 | 第12-15页 |
| 1.3 本论文的选题依据和研究思路 | 第15-16页 |
| 1.4 本章小结 | 第16-17页 |
| 2. 样品制备技术与表征技术 | 第17-21页 |
| 2.1 样品制备流程 | 第17页 |
| 2.2 实验原料 | 第17页 |
| 2.3 实验制备技术 | 第17-18页 |
| 2.3.1 溶胶凝胶方法 | 第17-18页 |
| 2.3.2 垂直沉积自组装法 | 第18页 |
| 2.4 样品的表征手段 | 第18-20页 |
| 2.5 本章小结 | 第20-21页 |
| 3. 三维SiO_2纳米列阵的制备与研究 | 第21-28页 |
| 3.1 制备 | 第21-22页 |
| 3.2 性质研究 | 第22-26页 |
| 3.2.1 红外图谱分析 | 第22-23页 |
| 3.2.2 形貌表征 | 第23-24页 |
| 3.2.3 结构形成过程分析 | 第24-25页 |
| 3.2.4 磁性分析 | 第25-26页 |
| 3.2.5 光致发光谱分析 | 第26页 |
| 3.3 本章小结 | 第26-28页 |
| 4. 二维SiO_2有序模板和二维Ag@SiO_2有序模板的制备与研究 | 第28-36页 |
| 4.1 二维SiO_2有序模板的制备与研究 | 第28-30页 |
| 4.1.1 制备 | 第28页 |
| 4.1.2 形貌 | 第28-29页 |
| 4.1.3 SiO_2微球的热重分析 | 第29-30页 |
| 4.2 二维Ag@SiO_2有序模板的制备和研究 | 第30-34页 |
| 4.2.1 制备 | 第30-31页 |
| 4.2.2 性质研究 | 第31-34页 |
| 4.3 本章小结 | 第34-36页 |
| 5. 有序二维Si声子晶体(有序多孔硅)的制备与研究 | 第36-43页 |
| 5.1 样品的制备 | 第37-38页 |
| 5.1.1 硅衬底的处理 | 第37页 |
| 5.1.2 有序多孔硅的制备过程 | 第37-38页 |
| 5.2 特性研究 | 第38-42页 |
| 5.2.1 形貌分析 | 第38页 |
| 5.2.2 形成过程分析 | 第38-40页 |
| 5.2.3 荧光分析 | 第40-41页 |
| 5.2.4 热导分析 | 第41页 |
| 5.2.5 光谱吸收分析 | 第41-42页 |
| 5.3 本章小结 | 第42-43页 |
| 6. 结论 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 攻读学位期间取得的科研成果清单 | 第52页 |