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宽带隙半导体4H-SiC核辐射探测器的设计与仿真

摘要第2-3页
Abstract第3-4页
1 绪论第7-15页
    1.1 研究背景与意义第7-11页
        1.1.1 辐射来源、种类、进行辐射探测的意义第7页
        1.1.2 辐射探测器的种类、优缺点及其应用第7-8页
        1.1.3 半导体辐射探测器的种类、优缺点及其应用第8页
        1.1.4 目前相对成熟的半导体辐射探测器简介第8-9页
        1.1.5 辐射探测器的性能简介第9-11页
    1.2 宽禁带半导体辐射探测器综述第11-14页
        1.2.1 宽禁带半导体的性质及其在辐射探测方面的应用优势第11页
        1.2.2 SiC、GaN、金刚石等宽带隙半导体辐射探测器的研究进展第11-13页
        1.2.3 宽带隙半导体辐射探测器的理论模拟研究进展第13-14页
    1.3 本论文的主要工作内容第14-15页
2 SiC肖特基二极管 α 粒子探测器的仿真物理模型第15-22页
    2.1 4H-SiC材料的结构和特性第15-17页
    2.2 4H-SiC材料 α 粒子探测器的国内外研究现状第17-18页
    2.3 器件仿真模型方程第18-21页
        2.3.1 基本的物理仿真方程第18页
        2.3.2 4H-SiC肖特基二极管物理仿真方程第18-21页
    2.4 本章小结第21-22页
3 SiC肖特基二极管探测器的性能仿真第22-41页
    3.1 通过软件SRIM确定肖特基二极管中外延层厚度第22-24页
        3.1.1 SRIM软件简介第22-23页
        3.1.2 4H-SiC肖特基二极管探测器器件结构第23-24页
    3.2 器件仿真结果及分析第24-28页
        3.2.1 Silvaco-TCAD仿真软件简介第24-25页
        3.2.2 探测器的电学特性仿真第25-28页
    3.3 器件仿真性能优化第28-39页
        3.3.1 外延层掺杂浓度对探测器的性能影响第28-31页
        3.3.2 钝化层对探测器的性能影响及优化第31-32页
        3.3.3 金属场板对探测器性能的影响及优化第32-39页
    3.4 本章小结第39-41页
4 设计 4H-SiC材料PIN二极管ɑ粒子探测器第41-55页
    4.1 4H-SiC材料PIN二极管ɑ粒子探测器器件结构第41-47页
        4.1.1 PIN二极管探测器结构简介第41页
        4.1.2 入射窗口P区厚度对能量沉积的模拟仿真第41-42页
        4.1.3 PIN二极管探测器P区厚度对探测器的性能影响及优化第42-44页
        4.1.4 PIN二极管探测器P区掺杂浓度对探测器的性能影响及优化第44-47页
    4.2 一维位置灵敏探测器仿真及研究第47-54页
        4.2.1 4H-SiC一维位置灵敏探测器工作原理第47-48页
        4.2.2 4H-SiC一维位置灵敏探测器设计要点第48-49页
        4.2.3 4H-SiC一维位置灵敏探测器器件结构第49页
        4.2.4 4H-SiC一维位置灵敏探测器特性仿真第49-54页
    4.3 本章小结第54-55页
参考文献第55-58页
结论第58-60页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第60-61页
致谢第61-63页

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