| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-24页 |
| 1 分子印迹技术的原理、方法与影响因素 | 第13-18页 |
| 1.1 分子印迹技术的原理与制备过程 | 第13-14页 |
| 1.2 影响非共价分子印迹聚合物识别能力的因素 | 第14-18页 |
| 1.2.1 功能单体的影响 | 第14-15页 |
| 1.2.2 交联剂的影响 | 第15-16页 |
| 1.2.3 致孔剂(溶剂)的影响 | 第16-17页 |
| 1.2.4 印迹聚合方法的影响 | 第17-18页 |
| 2 分子印迹电化学传感器 | 第18-22页 |
| 2.1 分子印迹电化学传感器的检测原理和分类 | 第18-19页 |
| 2.2 分子印迹电化学传感器的制备及应用 | 第19-21页 |
| 2.2.1 直接法 | 第19-20页 |
| 2.2.2 间接法 | 第20-21页 |
| 2.3 分子印迹电化学传感器研究中的存在问题及发展趋势 | 第21-22页 |
| 3 本论文的研究目的、意义和主要内容 | 第22-24页 |
| 第二章 基于原位聚合的钯离子印迹传感器制备与应用 | 第24-41页 |
| 1 引言 | 第24-25页 |
| 2 实验部分 | 第25-27页 |
| 2.1 主要仪器与试剂 | 第25-26页 |
| 2.2 样品溶液的制备 | 第26页 |
| 2.3 玻碳电极的预处理 | 第26页 |
| 2.4 离子印迹传感器的制备 | 第26-27页 |
| 2.5 电化学检测条件及实验方法 | 第27页 |
| 3 结果与讨论 | 第27-40页 |
| 3.1 Pd(Ⅱ)-IIM/GCE制备条件的优化 | 第27-33页 |
| 3.1.1 功能单体种类的优化 | 第27-30页 |
| 3.1.2 功能单体用量的优化 | 第30-31页 |
| 3.1.3 交联剂用量的优化 | 第31-32页 |
| 3.1.4 洗脱液和洗脱时间的优化 | 第32-33页 |
| 3.2 检测条件的优化 | 第33-34页 |
| 3.2.1 缓冲体系及其pH的选择 | 第33页 |
| 3.2.2 工作电位对IIP-CPE响应电流的影响 | 第33-34页 |
| 3.3 Pd(Ⅱ)离子印迹聚合膜及Pd(Ⅱ)-IIM/GCE的表征 | 第34-38页 |
| 3.3.1 形貌与结构表征 | 第34-36页 |
| 3.3.2 电化学特性表征 | 第36-38页 |
| 3.4 Pd(Ⅱ)-IIM/GCE的分析特性 | 第38-40页 |
| 3.4.1 工作曲线与检出限 | 第38-39页 |
| 3.4.2 电极的选择性、重现性、稳定性 | 第39-40页 |
| 3.5 实际样品分析 | 第40页 |
| 4 结论 | 第40-41页 |
| 第三章 IR(Ⅲ)离子印迹碳糊传感器的制备及应用 | 第41-55页 |
| 1 引言 | 第41-42页 |
| 2 实验部分 | 第42-43页 |
| 2.1 仪器和试剂 | 第42页 |
| 2.2 离子印迹及非印迹聚合物的制备 | 第42-43页 |
| 2.3 离子印迹及非印迹聚合物修饰碳糊电极的制备 | 第43页 |
| 2.4 电化学检测条件及实验方法 | 第43页 |
| 2.5 样品溶液的制备 | 第43页 |
| 3 结果与讨论 | 第43-54页 |
| 3.1 铱离子印迹聚合物制备条件的优化 | 第43-45页 |
| 3.1.1 聚合单体种类及用量的选择 | 第43-45页 |
| 3.1.2 交联剂用量的优化 | 第45页 |
| 3.2 IIP用量的优化 | 第45-46页 |
| 3.3 Ir(Ⅲ)离子印迹聚合物及IIP-CPE的表征 | 第46-49页 |
| 3.3.1 Ir(Ⅲ)-IIP的形貌和结构表征 | 第46-48页 |
| 3.3.2 IIP-CPE的电化学表征 | 第48-49页 |
| 3.4 IIP-CPE应用条件的优化 | 第49-51页 |
| 3.5 IIP-CPE的分析特性 | 第51-53页 |
| 3.5.1 安培i-t曲线、工作曲线与检出限 | 第51-52页 |
| 3.5.2 电极的选择性、重现性与稳定性 | 第52-53页 |
| 3.6 实际样品分析 | 第53-54页 |
| 4 结论 | 第54-55页 |
| 第四章 鬼臼毒素分子印迹电化学传感器的研制及应用 | 第55-67页 |
| 1 引言 | 第55页 |
| 2 实验部分 | 第55-58页 |
| 2.1 仪器与试剂 | 第55-56页 |
| 2.2 玻碳电极的预处理 | 第56页 |
| 2.3 PPT分子印迹传感器(PPT-MIM/GCE)的制备 | 第56-57页 |
| 2.4 电化学检测条件 | 第57-58页 |
| 2.5 样品溶液的制备 | 第58页 |
| 3 结果与讨论 | 第58-65页 |
| 3.1 PPT印迹传感器制备条件的优化 | 第58-60页 |
| 3.1.1 聚合单体种类及用量的选择 | 第58-59页 |
| 3.1.2 模板与交联剂的比例优化 | 第59-60页 |
| 3.1.3 洗脱液和洗脱时间的优化 | 第60页 |
| 3.2 PPT印迹膜的表征 | 第60-63页 |
| 3.2.1 形貌与结构表征 | 第60-61页 |
| 3.2.2 电化学特性表征 | 第61-63页 |
| 3.3 PPT印迹传感器的应用条件优化 | 第63页 |
| 3.4 印迹传感器的分析特性 | 第63-65页 |
| 3.4.1 线性范围与检出限 | 第63-64页 |
| 3.4.3 选择性 | 第64页 |
| 3.4.4 重现性与稳定性 | 第64-65页 |
| 3.5 实际样品分析 | 第65页 |
| 4 结论 | 第65-67页 |
| 第五章 用于尿囊素检测的石墨烯修饰分子印迹传感器的研究 | 第67-81页 |
| 1 引言 | 第67-68页 |
| 2 实验部分 | 第68-70页 |
| 2.1 仪器与试剂 | 第68页 |
| 2.2 石墨烯(G)的制备 | 第68-69页 |
| 2.3 玻碳电极的预处理 | 第69页 |
| 2.4 分子印迹-石墨烯复合膜修饰电极(MIM/G/GCE)的制备 | 第69页 |
| 2.5 人血清样品的制备 | 第69页 |
| 2.6 电化学检测条件 | 第69-70页 |
| 3 实验结果讨论 | 第70-80页 |
| 3.1 石墨烯的形貌和结构表征 | 第70-71页 |
| 3.2 印迹电极的制备 | 第71-72页 |
| 3.3 MIM/G/GCE传感器的表征 | 第72-75页 |
| 3.3.1 传感器的形貌表征 | 第72-73页 |
| 3.3.2 传感器的电化学特性 | 第73-75页 |
| 3.4 印迹传感器制备条件的优化 | 第75-78页 |
| 3.4.1 石墨烯浓度对电极响应灵敏度的影响 | 第75-76页 |
| 3.4.2 单体和模板浓度的优化 | 第76-77页 |
| 3.4.3 洗脱液及洗脱时间的确定 | 第77-78页 |
| 3.5 印迹传感器的分析特性 | 第78-79页 |
| 3.5.1 工作曲线与检出限 | 第78页 |
| 3.5.2 选择性、重现性及稳定性 | 第78-79页 |
| 3.6 实际样品分析 | 第79-80页 |
| 4 结论 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-91页 |
| 附录 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92页 |
