| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-27页 |
| 1.1 氟喹诺酮类药物的污染现状及处理手段 | 第12-14页 |
| 1.1.1 氟喹诺酮类药物 | 第12-13页 |
| 1.1.2 氟喹诺酮类抗菌药的残留及危害 | 第13页 |
| 1.1.3 氟喹诺酮类药物的处理技术 | 第13-14页 |
| 1.2 分子印迹技术研究进展 | 第14-22页 |
| 1.2.1 分子印迹技术简介 | 第14-15页 |
| 1.2.2 分子印迹的基本原理及分类 | 第15-17页 |
| 1.2.3 分子印迹聚合物的制备 | 第17-19页 |
| 1.2.4 分子印迹技术的应用 | 第19-21页 |
| 1.2.5 刺激响应性分子印迹材料 | 第21-22页 |
| 1.3 分子模拟技术在分子印迹研究中的应用 | 第22-25页 |
| 1.3.1 分子模拟的方法 | 第22-24页 |
| 1.3.2 分子模拟在分子印迹技术中研究进展 | 第24-25页 |
| 1.4 论文研究目的及内容 | 第25-27页 |
| 1.4.1 论文研究目的 | 第25页 |
| 1.4.2 论文的研究内容 | 第25-27页 |
| 第2章 诺氟沙星分子印迹聚合物的预组装体系模拟及其性能研究 | 第27-46页 |
| 2.1 引言 | 第27-28页 |
| 2.2 实验 | 第28-33页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第28页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第28-29页 |
| 2.2.3 分子动力学模拟 | 第29-30页 |
| 2.2.4 NOR-MIPs（NOR-NIPs）的制备 | 第30-31页 |
| 2.2.5 吸附试验 | 第31-33页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第33-44页 |
| 2.3.1 分子动力学模拟分析 | 第33-36页 |
| 2.3.2 NOR-MIPs与NIPs的结构表征 | 第36-38页 |
| 2.3.3 吸附性能分析 | 第38-43页 |
| 2.3.4 吸附再生性 | 第43-44页 |
| 2.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 第3章 基于硅球表面的温敏分子印迹聚合物的制备及其选择吸附诺氟沙星的研究 | 第46-59页 |
| 3.1 引言 | 第46页 |
| 3.2 实验 | 第46-49页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第46-47页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第47页 |
| 3.2.3 基于硅球表面的NOR-TMIPs的制备 | 第47-48页 |
| 3.2.4 NOR-TMIPs及TNIPs吸附实验 | 第48-49页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第49-57页 |
| 3.3.1 NOR-TMIPs（TNIPs）的制备 | 第49-50页 |
| 3.3.2 NOR-TMIPs（TNIPs）的结构表征 | 第50-53页 |
| 3.3.3 吸附性能分析 | 第53-57页 |
| 3.3.4 再生性 | 第57页 |
| 3.4 本章小结 | 第57-59页 |
| 第4章 磁性温敏分子印迹聚合物的制备及其对诺氟沙星的吸附性能研究 | 第59-74页 |
| 4.1 引言 | 第59页 |
| 4.2 实验 | 第59-63页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第59-60页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第60页 |
| 4.2.3 磁性温敏分子印迹聚合物（T-MMIPs）的制备 | 第60-61页 |
| 4.2.4 溶胀实验 | 第61页 |
| 4.2.5 吸附试验 | 第61-62页 |
| 4.2.6 NOR的释放实验 | 第62页 |
| 4.2.7 选择吸附实验 | 第62-63页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第63-73页 |
| 4.3.1 T-MMIPs的制备原理 | 第63页 |
| 4.3.2 T-MMIP的结构表征 | 第63-68页 |
| 4.3.3 温度对溶胀比和印迹识别能力的影响 | 第68页 |
| 4.3.4 吸附性能分析 | 第68-72页 |
| 4.3.5 再生性 | 第72-73页 |
| 4.4 本章小结 | 第73-74页 |
| 第5章 结论与展望 | 第74-76页 |
| 5.1 结论 | 第74-75页 |
| 5.2 展望 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第88页 |
