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基于磁流变弹性体的精密仪器厂房隔减振控制研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
1 绪论第11-20页
    1.1 课题背景及研究意义第11-12页
    1.2 精密仪器厂房隔减振研究现状第12-13页
    1.3 磁流变弹性体及其装置研究现状第13-14页
        1.3.1 磁流变弹性体研究现状第13-14页
        1.3.2 磁流变弹性体隔减振装置研究现状第14页
    1.4 精密仪器平台隔减振研究现状第14-15页
    1.5 平台振动控制类型及控制算法研究现状第15-17页
    1.6 本文主要研究内容第17-20页
        1.6.1 问题的提出第17页
        1.6.2 主要研究内容第17-20页
2 精密仪器厂房整体隔振效应分析第20-41页
    2.1 工程项目背景第20-21页
    2.2 振源激励分析及模拟第21-23页
        2.2.1 振源激励分析第21页
        2.2.2 振源激励模拟第21-23页
    2.3 精密仪器厂房整体隔振模型建立第23-24页
    2.4 整体隔振效应(隔振沟)分析第24-39页
        2.4.1 隔振沟位置影响分析第24-27页
        2.4.2 隔振沟深度影响分析第27-29页
        2.4.3 隔振沟宽度影响分析第29-31页
        2.4.4 隔振沟填充材料剪切模量影响分析第31-33页
        2.4.5 多隔振沟隔振效应分析第33-39页
    2.5 本章小结第39-41页
3 磁流变弹性体隔减振装置力学模型第41-55页
    3.1 MRE隔减振装置简介第41-42页
    3.2 MRE隔减振装置磁路分析第42-46页
    3.3 MRE隔减振装置磁致效应分析第46-47页
    3.4 MRE隔减振装置力学模型建立第47-49页
    3.5 MRE隔减振装置数值模拟分析第49-53页
        3.5.1 MRE隔减振装置有限元模型建立第49-51页
        3.5.2 装置“输出力”与电流关系理论值和模拟值的对比分析第51-52页
        3.5.3 装置“输出力”与位移关系理论值和模拟值的对比分析第52-53页
    3.6 本章小结第53-55页
4 加入MRE隔减振装置的精密仪器厂房平台振动控制效应分析第55-84页
    4.1 精密仪器厂房隔减振平台振动控制方案第55-57页
        4.1.1 振动控制方案第55-56页
        4.1.2 控制装置及其力学模型参数第56-57页
    4.2 隔减振平台简化模型及运动方程建立第57-64页
        4.2.1 隔减振平台简化模型第57-58页
        4.2.2 隔减振平台运动方程第58-64页
    4.3 隔减振平台模糊控制算法及控制策略第64-68页
        4.3.1 模糊控制简介第64页
        4.3.2 模糊控制隶属函数第64-65页
        4.3.3 模糊控制规则第65-67页
        4.3.4 隔减振平台半主动控制策略第67-68页
    4.4 精密仪器磁流变弹性体隔减振平台动力响应仿真分析第68-80页
        4.4.1 激励选取第68-71页
        4.4.2 隔减振平台动力响应分析第71-77页
        4.4.3 隔减振平台被动控制与半主动控制对比分析第77-80页
    4.5 隔振沟与磁流变弹性体隔减振平台联合隔振方案减振效果评价第80-83页
    4.6 本章小结第83-84页
5 结论与展望第84-86页
    5.1 结论第84-85页
    5.2 展望第85-86页
参考文献第86-89页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第89-90页
致谢第90页

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